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J-GLOBAL ID:200903054661618637

排水処理システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 矢野 寿一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000137419
Publication number (International publication number):2001314888
Application date: May. 10, 2000
Publication date: Nov. 13, 2001
Summary:
【要約】【課題】 処理槽内において、効率的に旋回流を発生させるとともに、処理槽の堆積物を処理することを課題とする。【解決手段】 下部の開口径が上部の開口径より大径に構成された中空円錐形部材15の内側面近傍に、空気を散気するノズル16を配設し、該ノズル16からの散気により、該円錐形部材15の内側に、渦流を発生させる散気装置5を配設し、該散気装置5の近傍かつ、旋回流の下流側に超微細気泡を供給する。
Claim (excerpt):
処理槽、散気装置および超微細気泡発生装置により、構成される排水処理システムであって、散気装置により処理槽内に旋回流を発生させ、該旋回流に超微細気泡を供給することを特徴とする排水処理システム。
IPC (2):
C02F 3/20 ,  B01F 3/04
FI (2):
C02F 3/20 A ,  B01F 3/04 A
F-Term (6):
4D029AA09 ,  4D029AB06 ,  4D029CC06 ,  4G035AA01 ,  4G035AB06 ,  4G035AC44
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
  • 特開昭60-227889
  • 曝気方法及びその装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-079936   Applicant:日立機電工業株式会社
  • 汚水の処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-060268   Applicant:環境科学工業株式会社
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Cited by examiner (17)
  • 曝気方法及びその装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-079936   Applicant:日立機電工業株式会社
  • 特開昭60-227889
  • 汚水の処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-060268   Applicant:環境科学工業株式会社
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