高分子光導波路及びその作製方法

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：中本宏 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996351806
Publication number (International publication number)：1998170738
Application date： Dec. 12, 1996
Publication date： Jun. 26, 1998
Summary：

【要約】【課題】従来得られることのなかった低複屈折かつ高耐熱性の低損失光導波路及びその作製方法を提供する。【解決手段】構造式(化1):【化1】(X:水素、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン、m=1〜3の整数、n=0〜10の整数)で表される不斉スピロ環を含有するエポキシ化合物、あるいは、該エポキシ化合物とアクリル酸又はメタクリル酸とから得られるエポキシアクリレート化合物を必須成分として得られるラセミ重合体を光学コア及び/又は光学クラッドとして用いる高分子光導波路。塗布、成膜、硬化による該高分子光導波路の作製方法。

Claim (excerpt)：

下記構造式(化1):【化1】(式中、Xは、水素、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲンを表し、mは1〜3の整数を、nは0〜10の整数を表す)で表される不斉スピロ環を含有するエポキシ化合物、若しくは、該エポキシ化合物とアクリル酸及びメタクリル酸より選ばれる少なくとも一種とから得られるエポキシアクリレート化合物を必須成分として得られるラセミ重合体を光学コア及び/又は光学クラッドとして用いることを特徴とする高分子光導波路。

IPC (4)：

G02B 6/12 , C08G 59/20 , G02B 6/13 , C08F299/02

FI (4)：

G02B 6/12 N , C08G 59/20 , C08F299/02 , G02B 6/12 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (20)

芳香族ポリカーボネートの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-252445 Applicant：三井東圧化学株式会社
電子写真感光体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-035154 Applicant：三菱瓦斯化学株式会社
特開平4-249532

Show all

Return to Previous Page