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J-GLOBAL ID：200903055211094588

光周波数測定システム及び光周波数コムの周波数成分の決定方法

Inventor：
興梠 元伸

About 興梠 元伸

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今井 一宏

About 今井 一宏

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バンバン ウィディヤトモコ

About バンバン ウィディヤトモコ


Applicant, Patent owner：
株式会社 光コム

About 株式会社 光コム


Agent (6)： 小池 晃 ,  田村 榮一 ,  伊賀 誠司 ,  藤井 稔也 ,  野口 信博 ,  山口 茂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006157631
Publication number (International publication number)：2007328044
Application date： Jun. 06, 2006
Publication date： Dec. 20, 2007
Summary：
【課題】高分解能な光周波数測定を迅速に行う。【解決手段】光周波数可変レーザ光源12が出射する第2のレーザ光の周波数ν2を制御して、レーザ光源11から出射される第1のレーザ光L1と上記光周波数可変レーザ光源12から出射される第2のレーザ光L2との干渉周波数Δν1を所定周波数とし、第1の変調信号発生器18から第1の光周波数コム発生器16に与える変調信号Smod1の変調周波数fm1と第2の変調信号発生器19から第2の光周波数コム発生器17に与える変調信号Smod2の変調周波数fm2を微少周波数Δfmだけずらしておき、上記第2の光周波数コム発生器17による光周波数コムLcomb2と被測定レーザ光Lxとの干渉周波数Δν3を測定し、上記第2及び第3の周波数カウンタによる測定値に基づいて被測定レーザ光Lxの周波数νxを決定する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
基準となる周波数ν1の第1のレーザ光L1を出射するレーザ光源と、 高出力の第2のレーザ光L2を出射する光周波数可変レーザ光源と、 上記光周波数可変レーザ光源から出射された第2のレーザ光L2が第1の光分離器を介して入射され、上記レーザ光源から出射された第1のレーザ光L1と上記第2のレーザ光L2とを合成する第1の光合成器と、 上記光周波数可変レーザ光源から出射された第2のレーザ光L2が第2の光分離器を介して入射される第1の光周波数コム発生器及び第2の光周波数コム発生器と、 上記第1の光周波数コム発生器に与える変調信号SMOD1を発生する第1の変調信号発生器と、 上記第2の光周波数コム発生器に与える変調信号SMOD2を発生する第2の変調信号発生器と、 上記第1の光周波数コム発生器により生成された光周波数コムLcomb1と被測定レーザ光Lxとを合成する第2の光合成器と、 上記第2の光周波数コム発生器により生成された光周波数コムLcomb2と被測定レーザ光Lxとを合成する第3の光合成器と、 上記第1の光合成器により合成された上記第1のレーザ光L1と第2のレーザ光L2との干渉光LAの光強度の変化を検出する第1の光検出器と、 上記第2の光合成器により合成された光周波数コムLcomb1と被測定レーザ光Lxの干渉光LBの光強度の変化を検出する第2の光検出器と、 上記第3の光合成器により合成された光周波数コムLcomb2と被測定レーザ光Lxの干渉光LCの光強度の変化を検出する第3の光検出器と、 上記第1の光検出器により得られる検出信号PD1に基づいて上記第1のレーザ光L1と第2のレーザ光L2との干渉周波数Δν1を測定する第1の周波数カウンタと、 上記第2の光検出器により得られる検出信号PD2に基づいて上記光周波数コムLcomb1と被測定レーザ光Lxとの干渉周波数Δν2を測定する第2の周波数カウンタと、 上記第3の光検出器により得られる検出信号PD3に基づいて上記光周波数コムLcomb2と被測定レーザ光Lxとの干渉周波数Δν3を測定する第3の周波数カウンタと、 上記光周波数可変レーザ光源の動作を制御して、上記第1乃至第3の周波数カウンタにより測定される各干渉周波数Δν1,Δν2,Δν3に基づいて、上記被測定レーザ光Lxの周波数νxを決定する測定制御部とを備え、 上記測定制御部は、上記光周波数可変レーザ光源が出射する第2のレーザ光の周波数ν2を制御して、上記第1の周波数カウンタにより測定される上記第1のレーザ光L1と第2のレーザ光L2との干渉周波数Δν1を所定周波数とし、上記第1の変調信号発生器から第1の光周波数コム発生器に与える変調信号Smod1の変調周波数fm1と上記第2の変調信号発生器から第2の光周波数コム発生器に与える変調信号Smod2の変調周波数fm2を微少周波数Δfmだけずらしておき、上記第2の周波数カウンタにより測定される上記光周波数コムLcomb1と被測定レーザ光Lxとの干渉周波数Δν2が一定値になるように制御した状態で、上記第1乃至第3のカウンタにより、上記第1のレーザ光L1と第2のレーザ光L2との干渉周波数Δν1、上記光周波数コムLcomb1と被測定レーザ光Lxとの干渉周波数Δν2、上記光周波数コムLcomb2と被測定レーザ光Lxとの干渉周波数Δν3を測定し、 上記第2及び第3の周波数カウンタによる測定値に基づいて、 N=(Δν2-Δν3)/Δfm にて、上記光周波数コムLcomb1の次数Nを決定し、決定した次数Nを用いて、 νx=ν1+Δν1+Δν2+ Nfm1 にて上記被測定レーザ光Lxの周波数νxを決定することを特徴とする光周波数測定システム。
IPC (2)：
G02F 2/02 ,  G01J 9/02
FI (2)：
G02F2/02 ,  G01J9/02
F-Term (4)：
2K002AB12 ,  2K002AB40 ,  2K002EB15 ,  2K002HA13
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • 光周波数測定システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-370491   Applicant：科学技術振興事業団
  • 光周波数測定システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-205076   Applicant：株式会社光コム研究所
Cited by examiner (5)
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