レジオレギュラーポリマー、ポリチオフェンおよびブロックコポリマーを含む導電性ポリマーのリビング合成法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：清水初志 , 刑部俊 , 新見浩一 , 小林智彦 , 渡邉伸一 , 井上隆一
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2008504411
Publication number (International publication number)：2008534751
Application date： Mar. 31, 2006
Publication date： Aug. 28, 2008
Summary：

良好な可溶性、加工性および環境安定性を有するレジオレギュラーポリ(3-アルキルチオフェン)および他のポリチオフェンをリビング重合によって調製することができる。重合法は、レジオレギュラーポリ(3-アルキルチオフェン)を高い収率で与えることができる。重合の動力学的研究がこのプロセスのリビング特性を明らかにした。ポリ(3-アルキルチオフェン)の分子量は、ニッケル開始剤に対するモノマーのモル比の関数であり、比較的狭い分子量分布(PDK1.5)を有する導電性ポリマーが今や容易に入手可能である。逐次的なモノマー付加が、異なるポリ(3-アルキルチオフェン)セグメントを含む新たなブロックコポリマーを生じさせ、それがこの系の「リビング性」をさらに裏付ける。他の合成法を同様に使用してリビング重合を実施することもできる。ブレンドおよび電子装置を調製することができる。

Claim (excerpt)：

リビング重合を提供する条件下、第一のチオフェンモノマーをグリニャールメタセシス重合によって重合させてポリチオフェン中間体を形成する工程、第二のチオフェンモノマーの付加によって該中間体を鎖延長してABブロックコポリマーを形成する工程を含む方法。

IPC (1)：

C08G 61/12

FI (1)：

C08G61/12

F-Term (9)：

4J032BA04 , 4J032BA05 , 4J032BB03 , 4J032BB04 , 4J032BB09 , 4J032BC03 , 4J032BC12 , 4J032BC13 , 4J032CG01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

エレクトロルミネセンス装置におけるヘテロ原子位置規則性ポリ(3-置換チオフェン)
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2007-533635 Applicant：プレックストロニクスインコーポレーティッド
改善された電子性能を有する可溶性ポリ(チオフェン)のコポリマー
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2008-502030 Applicant：プレックストロニクスインコーポレーティッド
ポリ(3-置換チオフェン)の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-282638 Applicant：科学技術振興事業団

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