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J-GLOBAL ID：200903055765244220

電気光学素子及び透明導電膜の形成方法

Inventor：
川原 雄介

About 川原 雄介

, 
安藤 浩明

About 安藤 浩明


Applicant, Patent owner：
コニカミノルタホールディングス株式会社

About コニカミノルタホールディングス株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003426572
Publication number (International publication number)：2005183346
Application date： Dec. 24, 2003
Publication date： Jul. 07, 2005
Summary：
【課題】 導電性及び光透過性に優れ、簡便な装置構成で製膜することが出来る透明導電性膜を備えた電気光学素子を提供する。【解決手段】 導電材料の微粒子を基材に衝突させる製膜工程及び形成された膜を加熱する工程により透明導電膜を形成する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
基材上に、膜厚が1μm〜20μmであり、比抵抗が3.0×10-4Ω・cm以下である透明導電膜が設けられ、波長550nmの光の透過率が70%以上であることを特徴とする電気光学素子。
IPC (6)：
H01B5/14 ,  C23C14/58 ,  G02F1/1343 ,  H01B13/00 ,  H01J11/02 ,  H05B33/28
FI (6)：
H01B5/14 A ,  C23C14/58 A ,  G02F1/1343 ,  H01B13/00 503B ,  H01J11/02 E ,  H05B33/28
F-Term (40)：
2H092KA18 ,  2H092KB04 ,  2H092KB13 ,  2H092MA04 ,  2H092MA05 ,  2H092MA06 ,  2H092MA07 ,  2H092MA08 ,  2H092NA01 ,  2H092NA25 ,  2H092NA29 ,  3K007AB05 ,  3K007CB01 ,  3K007DB00 ,  3K007DB03 ,  4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA50 ,  4K029BC03 ,  4K029CA01 ,  4K029GA01 ,  5C040GH10 ,  5C040JA21 ,  5C040KA04 ,  5C040KB13 ,  5C040KB17 ,  5C040KB29 ,  5C040LA14 ,  5C040MA08 ,  5G307FA01 ,  5G307FA02 ,  5G307FB01 ,  5G307FB02 ,  5G307FC09 ,  5G307FC10 ,  5G323BA01 ,  5G323BA02 ,  5G323BB04 ,  5G323BB06 ,  5G323BC03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (4)
  • 超微粒子薄膜形成方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-237481   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所, 東陶機器株式会社
  • 特開昭61-256943
  • 特開平3-029216
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