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J-GLOBAL ID:200903056359311983
洗浄方法およびその装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001191202
Publication number (International publication number):2003001208
Application date: Jun. 25, 2001
Publication date: Jan. 07, 2003
Summary:
【要約】【課題】洗浄用溶媒中のごみなどの微細粒子を除去することが困難であり、また溶媒の粒径を小さくすることが難しいため、被洗浄物を傷つけることがあったという課題を解決する。【解決手段】溶媒(CO2)の気体をラインフィルタに通してごみなどの粒子を除去し、ノズルから噴射して固体粒子または液滴に変換して被洗浄物に噴射して粒子または有機物を洗浄するようにした。ノズルと被洗浄物の間のギャップを調節することにより、溶媒を固体粒子または液滴状にできるので、汚れの程度に応じて最適の溶媒の状態を選択することができる。また溶媒中のごみ等の粒子をフィルタで容易に除くことができるので、高価な純度の高い溶媒を使用しなくてもよくなり、ランニングコストを低減することができる。
Claim (excerpt):
溶媒をノズルから被洗浄物に噴射して洗浄する洗浄方法において、ノズルと被洗浄物との間の距離を制御することにより、前記被洗浄物に到達する前記溶媒の状態を調節するようにしたことを特徴とする洗浄方法。
IPC (6):
B08B 7/00
, B08B 5/02
, G02F 1/13 101
, H01L 21/304 643
, H01L 21/304
, H05F 3/06
FI (6):
B08B 7/00
, B08B 5/02 Z
, G02F 1/13 101
, H01L 21/304 643 A
, H01L 21/304 643 C
, H05F 3/06
F-Term (14):
2H088FA21
, 2H088FA30
, 2H088MA20
, 3B116AA02
, 3B116AA03
, 3B116AB14
, 3B116AB33
, 3B116AB42
, 3B116BB44
, 3B116BC00
, 3B116CD43
, 5G067AA41
, 5G067AA59
, 5G067DA24
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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特開平2-130921
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高さの低いスス吹きノズル
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-247086
Applicant:ザバブコックアンドウィルコックスカンパニー
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二重ジェットスプレー洗浄方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-093581
Applicant:ヒューズ・エアクラフト・カンパニー
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クラスタを利用した乾式洗浄装置及びその方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-149661
Applicant:株式会社ダサンシー・アンド・アイ
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基板除電方法及び基板処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-185859
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
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低温エーロゾルの製造および制御による基材の処理
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平11-503255
Applicant:エフエスアイインターナショナルインコーポレーテッド
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