Pat

J-GLOBAL ID：200903087897751660

基板除電方法及び基板処理装置

Inventor： 木▲崎▼ 幸治
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 小野 由己男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998185859
Publication number (International publication number)：2000021726
Application date： Jul. 01, 1998
Publication date： Jan. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】 軟X線照射除電装置を使った場合にも基板処理に不具合が起こらないような基板除電方法を提供することにある。【解決手段】 基板除電方法は、処理部と軟X線イオナイザ101とを備えた基板処理装置における基板除電方法であって、軟X線が基板Wに所定時間以上照射されないように制御しながら基板Wを除電する方法である。処理部では、連続して基板Wに処理を施す。軟X線イオナイザ142は、処理部にある基板Wに軟X線を照射して基板Wの除電を行う。

Claim (excerpt)：

連続して基板に処理を施す処理部と前記処理部にある基板に軟X線を照射する軟X線照射除電装置とを備えた基板処理装置における基板除電方法であって、軟X線が基板に所定時間以上照射されないように制御しながら基板を除電する基板除電方法。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G02F 1/13 101 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02

FI (4)：

H01L 21/30 503 G ,  G02F 1/13 101 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02 X

F-Term (15)：

2H088FA18 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H097BA02 ,  2H097BA04 ,  2H097BA06 ,  2H097BB01 ,  2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F046AA08 ,  5F046AA28 ,  5F046DA30 ,  5F046JA25

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 薄膜塗布装置および方法、並びに液晶表示素子の製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-226495   Applicant：チッソ株式会社, 株式会社飯沼ゲージ製作所, 浜松ホトニクス株式会社
• 基板の洗浄乾燥装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-183579   Applicant：株式会社飯沼ゲージ製作所, 浜松ホトニクス株式会社
• 液晶配向処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-091783   Applicant：株式会社飯沼ゲージ製作所, 浜松ホトニクス株式会社
• 基板ベーキング装置及び基板ベーキング方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-119108   Applicant：シグマメルテック株式会社, 株式会社東芝
• 静電気除去方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-024488   Applicant：財団法人半導体研究振興会
• 処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-120737   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社