無機微粒子およびその製造方法

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人原謙三国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005228763
Publication number (International publication number)：2007045639
Application date： Aug. 05, 2005
Publication date： Feb. 22, 2007
Summary：

【課題】発光材として安定でありかつ液体中での分散が容易である、高率で回収し得る無機微粒子、およびその製造方法を提供すること。【解決手段】液体中に浸漬した基板に対してレーザアブレーションを行う工程を包含する製造方法によって無機微粒子を製造する。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

液体中に浸漬した基板に対してレーザアブレーションを行う工程を包含することを特徴とする無機微粒子の製造方法。

IPC (2)：

C01B 33/02 , B01J 19/12

FI (2)：

C01B33/02 Z , B01J19/12 H

F-Term (14)：

4G072AA01 , 4G072BB20 , 4G072GG01 , 4G072GG03 , 4G072HH01 , 4G072LL15 , 4G072NN30 , 4G072UU30 , 4G075AA27 , 4G075BB10 , 4G075BD16 , 4G075CA36 , 4G075CA51 , 4G075DA18

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

準結晶薄膜の作製方法および作製装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-257019 Applicant：浜松ホトニクス株式会社
レーザーアブレーション装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-045344 Applicant：松下電器産業株式会社
レーザーアブレーション法による結晶薄膜の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-186258 Applicant：トヨタ自動車株式会社

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ナノ粒子の製造装置及びナノ粒子の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-377046 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
液相レーザーアブレーション装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-317045 Applicant：株式会社奈良機械製作所
溶液中レーザーアブレーションの制御方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-258125 Applicant：科学技術振興事業団

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Article cited by the Patent：

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