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J-GLOBAL ID:200903056592985986
不均衡共振トンネル効果を用いた発光ダイオード
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大渕 美千栄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000157811
Publication number (International publication number):2000357819
Application date: May. 29, 2000
Publication date: Dec. 26, 2000
Summary:
【要約】【課題】 2つの井戸システムに基づくLEDを提供する。【解決手段】 本発明のLEDは、電荷不均衡共振トンネル効果を有し、第1および第2の連結した井戸を含む。第1および第2の連結した井戸のうちの一方は幅広井戸で、他方は活性量子井戸である。これらの井戸は、共振トンネル効果を有する障壁を介して連結されている。この障壁は電子を通過させ、かつ正孔を遮断する。
Claim (excerpt):
電荷不均衡共振トンネル効果を用いた2の井戸部を構成する発光ダイオードであって、連結する第1および第2の井戸を含み、前記第1および第2の井戸のうち、一方は幅広井戸であり、他方は活性量子井戸であり、前記第1および第2の井戸は、共振トンネル障壁を介して連結し、前記共振トンネル障壁は、電子を通過させ、かつ正孔を遮断する、発光ダイオード。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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レーザデバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-350892
Applicant:シャープ株式会社
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多重量子井戸型半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-321640
Applicant:日本電気株式会社
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窒化物半導体デバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-290218
Applicant:日亜化学工業株式会社
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窒化物半導体素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-270375
Applicant:日亜化学工業株式会社
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n型窒化ガリウム系化合物半導体の結晶成長方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-227679
Applicant:日亜化学工業株式会社
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