感放射線性樹脂組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993261874
Publication number (International publication number)：1995092663
Application date： Sep. 24, 1993
Publication date： Apr. 07, 1995
Summary：

【要約】【構成】放射線照射により酸を発生させ、その酸の触媒作用による化学変化によって、放射線照射部分の現像液に対する溶解性を変化させてパターンを形成する感放射線性樹脂組成物において、溶剤が酢酸ブチルと3-エトキシプロピオン酸エチルとを含有してなる混合溶剤であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【効果】感度、解像度等に優れ、特に大口径化された基板へのスピンコート法による塗布性に優れており、また微細加工を安定的に行うことができ、保存安定性に優れ、良好なパターン形状を与えるレジスト被膜を形成する化学増幅型の感放射線性樹脂組成物として好適であり、i線等の紫外線、エキシマレーザー等の遠紫外線、シンクロトロン放射線等のX線、電子線等の荷電粒子線といった放射線のいずれにも対応でき、半導体デバイス製造用の感放射線性樹脂組成物として有利に使用できる。

Claim (excerpt)：

放射線照射により酸を発生させ、その酸の触媒作用による化学変化によって、放射線照射部分の現像液に対する溶解性を変化させてパターンを形成するレジストを、溶剤に溶解してなる感放射線性樹脂組成物において、該溶剤が酢酸ブチルと3-エトキシプロピオン酸エチルとを含有してなる混合溶剤であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (4)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/038 505 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ネガ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-294623 Applicant：三菱化成株式会社
ネガ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-326748 Applicant：日本合成ゴム株式会社
ネガ型放射線感応性レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-137542 Applicant：東京応化工業株式会社

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