Pat
J-GLOBAL ID:200903059896717456
フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
後藤 幸久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999223110
Publication number (International publication number):2001048931
Application date: Aug. 05, 1999
Publication date: Feb. 20, 2001
Summary:
【要約】【課題】 優れた透明性、アルカリ可溶性及び密着性を具備するだけでなく、高いエッチング耐性をも備えた高分子化合物を得る。【解決手段】 下記式(I)、(II)及び(III)【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2及びR3は、水素原子、ヒドロキシル基又は-COOR4基を示し、R4はt-ブチル基、2-テトラヒドロピラニル基などを示す。R5及びR6は、水素原子、ヒドロキシル基又はオキソ基を示す。R7、R8及びR9は、水素原子又はメチル基を示す)から選択された少なくとも1種のモノマー単位を含む[但し、式(III)のモノマー単位を含む場合などには、下記式(IV)【化2】(式中、R10及びR11は、水素原子、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を示し、R12はヒドロキシル基、オキソ基又はカルボキシル基を示す。R1は前記に同じ)で表されるモノマー単位などから選択された少なくとも1種のモノマー単位をも含む]高分子化合物。
Claim (excerpt):
下記式(I)、(II)及び(III)【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2及びR3は、同一又は異なって、水素原子、ヒドロキシル基又は-COOR4基を示し、R4はt-ブチル基、2-テトラヒドロフラニル基、2-テトラヒドロピラニル基又は2-オキセパニル基を示す。R5及びR6は、同一又は異なって、水素原子、ヒドロキシル基又はオキソ基を示す。R7、R8及びR9は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示す)から選択された少なくとも1種のモノマー単位を含む[但し、式(II)のうち、R5=R6=Hであるモノマー単位を含む場合、又は式(III)のモノマー単位を含む場合には、前記式(I)で表されるモノマー単位、前記式(II)のうちR5及びR6の少なくとも一方がヒドロキシル基又はオキソ基であるモノマー単位、及び下記式(IV)【化2】(式中、R10及びR11は、同一又は異なって、水素原子、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を示し、R12はヒドロキシル基、オキソ基又はカルボキシル基を示す。R1は前記に同じ)で表されるモノマー単位から選択された少なくとも1種のモノマー単位をも含む]高分子化合物。
IPC (3):
C08F 20/10
, C08L 33/04
, G03F 7/039 601
FI (3):
C08F 20/10
, C08L 33/04
, G03F 7/039 601
F-Term (61):
2H025AA00
, 2H025AA09
, 2H025AA14
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AC05
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4J002BG041
, 4J002BG051
, 4J002BG071
, 4J002EQ036
, 4J002ER006
, 4J002EV196
, 4J002EV216
, 4J002EV246
, 4J002EV296
, 4J002EV316
, 4J002EW056
, 4J002EY026
, 4J002FD146
, 4J002FD206
, 4J002GP03
, 4J100AJ02T
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100AL08T
, 4J100BA03P
, 4J100BA03Q
, 4J100BA03R
, 4J100BA03T
, 4J100BA11P
, 4J100BA11R
, 4J100BA15Q
, 4J100BA15T
, 4J100BA16P
, 4J100BA16T
, 4J100BA20Q
, 4J100BA20T
, 4J100BC07T
, 4J100BC08T
, 4J100BC09P
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC09T
, 4J100BC53Q
, 4J100BC53S
, 4J100BC53T
, 4J100CA01
, 4J100CA03
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100JA38
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-152862
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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感光性組成物及びパタ-ン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-070591
Applicant:株式会社東芝
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化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-238542
Applicant:住友化学工業株式会社
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