レジスト用樹脂、レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大胡典夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999224538
Publication number (International publication number)：2000330287
Application date： Aug. 06, 1999
Publication date： Nov. 30, 2000
Summary：

【要約】【課題】短波長光に対する透明性が優れるとともに高いドライエッチング耐性を備え、かつアルカリ現像で密着性、解像性の良好なレジストパターンを形成することができるレジスト用樹脂、レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することを目的としている。【解決手段】本発明は有橋脂環を有しかつ少なくとも2個の含酸素極性基が前記有橋脂環の3級炭素位に結合した構造を有するレジスト用樹脂、さらに前記樹脂と、光酸発生剤を少なくとも含むことを特徴とするレジスト組成物、前記レジスト組成物を用いたパターン形成方法である。

Claim (excerpt)：

有橋脂環を有しかつ少なくとも2個の含酸素極性基が前記有橋脂環の3級炭素位に結合した構造を含むレジスト用樹脂。

IPC (6)：

G03F 7/039 601 , C08G 63/00 , C08L 67/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/033 , H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/039 601 , C08G 63/00 , C08L 67/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/033 , H01L 21/30 502 R

F-Term (57)：

2H025AA00 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC07 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB19 , 2H025CB20 , 2H025CB41 , 2H025CB42 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025CB52 , 2H025EA04 , 2H025FA17 , 4J002BG071 , 4J002CF181 , 4J002EB106 , 4J002ED076 , 4J002EQ016 , 4J002EV016 , 4J002EV046 , 4J002EV206 , 4J002EV216 , 4J002EV246 , 4J002EV256 , 4J002EV306 , 4J002EV316 , 4J002EV346 , 4J002FD206 , 4J002GP03 , 4J029AA03 , 4J029AB07 , 4J029AC01 , 4J029AC02 , 4J029AD01 , 4J029AE04 , 4J029BD05C , 4J029BD10 , 4J029CD07 , 4J029HA01 , 4J029HB01 , 4J029HB05 , 4J029KA02 , 4J029KB02 , 4J029KE09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-046000 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-120919 Applicant：富士写真フイルム株式会社
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-136916 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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