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J-GLOBAL ID：200903059948704013

位相シフトマスクの位相差の調整方法

Inventor：
林 昌志

About 林 昌志


Applicant, Patent owner：
凸版印刷株式会社

About 凸版印刷株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000156505
Publication number (International publication number)：2001337438
Application date： May. 26, 2000
Publication date： Dec. 07, 2001
Summary：
【要約】【課題】位相シフトマスクに使用される材料(透明基板及び位相シフタ膜)及びエッチング薬液を適宜選定することにより、位相シフトマスクの位相差を精度良く調整する方法を提供することを目的とする。【解決手段】透明基板11と位相シフタ膜12が合成石英ガラスとモリブデンシリサイドの酸化物あるいはモリブデンシリサイドの酸化窒化物の組み合わせからなる位相シフトマスク10を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の強アルカリの水溶液からなるエッチング薬液を用いてエッチングして位相差調整を行う。
Claim (excerpt)：
透明基板上に露光光の位相を反転する位相シフタ膜が形成されてなる位相シフトマスクについて、前記透明基板のみを透過する前記露光光の位相と、透明基板と位相シフタ膜を透過する前記露光光の位相の差(以下、簡略して位相差という)を調整することを目的とする位相シフトマスクの位相差の調整方法において、前記位相シフトマスクを薬液に浸漬して、前記透明基板あるいは/および前記位相シフタ膜(透明基板と位相シフタ膜の両者あるいは少なくともいずれか一方)をエッチングすることにより位相差を調整することを特徴とする位相シフトマスクの位相差の調整方法。
IPC (2)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P
F-Term (4)：
2H095BA01 ,  2H095BB03 ,  2H095BB15 ,  2H095BB31
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (4)
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