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J-GLOBAL ID:200903060089068442

光学検出用基板およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005213490
Publication number (International publication number):2007033090
Application date: Jul. 22, 2005
Publication date: Feb. 08, 2007
Summary:
【課題】基板上に定着させた物質から発せられる検出光を検出する方法に用いられる光学検出用基板において、試料溶液を基板上の所定位置に、スポットの大きさおよび形状が均一となるように、精度良く点着できるようにする。【解決手段】光学検出用基板1の表面に親水性領域2を周期的に設け、該親水性領域2の周期を5000nm以下とする。光学検出用基板1は、基板1の表面上に、活性エネルギー線の照射により水との親和性が変化する薄膜を形成する工程と、該薄膜に対して活性エネルギー線を選択的に照射する工程を有する方法で製造できる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
基板上に定着させた物質から発せられる検出光を検出する方法に用いられる基板であって、 該基板の表面に親水性領域が周期的に設けられており、該親水性領域の周期が5000nm以下であり、かつ前記物質の定着領域の径より小さいことを特徴とする光学検出用基板。
IPC (3):
G01N 33/53 ,  G01N 37/00 ,  G01N 33/543
FI (3):
G01N33/53 M ,  G01N37/00 102 ,  G01N33/543 525U
F-Term (12):
4B024AA11 ,  4B024CA01 ,  4B024CA11 ,  4B024HA14 ,  4B029AA07 ,  4B029AA21 ,  4B029AA23 ,  4B029BB15 ,  4B029BB20 ,  4B029CC03 ,  4B029CC08 ,  4B029FA15
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (7)
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