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J-GLOBAL ID：200903060508288113

電子材料用洗浄液および洗浄方法

Inventor： 榛原 照男 ,  森 良弘 ,  毛利 敬史
Applicant, Patent owner： ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
Agent (4)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007277936
Publication number (International publication number)：2008182188
Application date： Oct. 25, 2007
Publication date： Aug. 07, 2008
Summary：

【課題】本発明は、電子材料、特にシリコンウエハ用の洗浄液およびそれを用いた洗浄方法に関する。【解決手段】本発明にかかる洗浄方法は、超純水あるいは水素水を原料水とし、かつ水素マイクロバブルの存在下で、超音波照射を組合わせた洗浄液を用いることを特徴とする。【効果】本発明の方法は、ウエハ表面のパーティクル成分等を効率的に洗浄除去し、再汚染を防止することが可能となる。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

水素ガスによるマイクロバブルを含み、かつ超音波振動を付与された水系液体であることを特徴とする、電子材料用洗浄液。

IPC (1)：

H01L 21/304

FI (4)：

H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 647B ,  H01L21/304 647A ,  H01L21/304 642E

F-Term (22)：

5F157AA22 ,  5F157AA23 ,  5F157AA28 ,  5F157AA73 ,  5F157AA96 ,  5F157BB73 ,  5F157BC53 ,  5F157BC54 ,  5F157BD02 ,  5F157BD25 ,  5F157BD54 ,  5F157BE12 ,  5F157BE23 ,  5F157BE32 ,  5F157BE33 ,  5F157BE35 ,  5F157BF37 ,  5F157BF39 ,  5F157CC02 ,  5F157CF06 ,  5F157DB03 ,  5F157DB18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 洗浄方法および洗浄水の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-279823   Applicant：松下電器産業株式会社
• パーティクル除去方法および基板処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-129606   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 洗浄装置および方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-199152   Applicant：日立プラント建設株式会社
• 洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-174302   Applicant：栗田工業株式会社