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J-GLOBAL ID:200903060614484967

低摩擦コーティングを備えた弁

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 川口 義雄 ,  小野 誠 ,  渡邉 千尋 ,  金山 賢教 ,  大崎 勝真 ,  坪倉 道明
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2007501913
Publication number (International publication number):2007526974
Application date: Mar. 02, 2005
Publication date: Sep. 20, 2007
Summary:
本発明の実施形態は、流体の流れを制御する方法および装置を特徴とする。流体の流れを制御する装置の一実施形態は、回転子、固定子、および圧縮手段を備える。回転子は、回転子流体連通手段と、少なくとも1つの回転子負荷支持面とを備える。回転子負荷支持面は、固定負荷支持面と密封可能に係合する。回転子は、回転によって第1の位置と第2の位置をとることができる。固定子は、固定子流体連通手段を有する固定負荷支持面を有する。固定負荷支持面は、回転子負荷支持面と密封可能に係合し、回転子が固定子に対して回転できるようにする。回転子負荷支持面と前記固定子負荷支持面のうち少なくとも一方は、ダイアモンド状の炭素シリカコーティングを有する。
Claim (excerpt):
流体の流れを制御する装置であって、 a.回転子流体連通手段と、少なくとも1つの回転子負荷支持面とを有する回転子を備え、回転子負荷支持面が、固定負荷支持面と密封可能に係合し、前記回転子が、回転によって第1の位置と第2の位置をとることが可能であり、前記装置がさらに、 b.固定子流体連通手段を有する固定負荷支持面を有する少なくとも1つの固定子を備え、前記固定負荷支持面が、前記回転子負荷支持面と密封可能に係合し、前記回転子が前記固定子に対して回転できるようにし、前記第1の位置で、前記回転子流体連通手段と前記固定子流体連通手段とが、流体の流れを防止し、前記第2の位置で、前記回転子流体連通手段と固定子流体連通手段とが、流体を流れるようにし、前記回転子負荷支持面と前記固定子負荷支持面とのうち少なくとも一方が、ダイアモンド状の炭素シリカコーティングを有し、前記装置がさらに、 c.前記少なくとも1つの固定子と回転子を、前記回転子負荷支持面と固定負荷支持面が密封可能に係合された状態で保持する圧縮手段を備え、前記ダイアモンド炭素シリカコーティングが、低摩擦および硬度増大をもたらして、前記第1の位置と第2の位置との間の繰り返し移動を可能にする、装置。
IPC (2):
F16K 3/04 ,  F16K 31/44
FI (2):
F16K3/04 A ,  F16K31/44 F
F-Term (18):
3H053AA22 ,  3H053AA35 ,  3H053BA04 ,  3H053BA17 ,  3H053BA19 ,  3H053BA34 ,  3H053BA39 ,  3H053BB18 ,  3H053BB20 ,  3H053BB39 ,  3H053DA12 ,  3H063AA05 ,  3H063BB37 ,  3H063BB50 ,  3H063DA02 ,  3H065AA03 ,  3H065BA02 ,  3H065BB21
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (15)
  • ディスクバルブ
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-364771   Applicant:京セラ株式会社
  • 特開平1-307575
  • ディスクバルブ
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-297222   Applicant:京セラ株式会社
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