レジスト用剥離液組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川洋子 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995335728
Publication number (International publication number)：1997152721
Application date： Nov. 30, 1995
Publication date： Jun. 10, 1997
Summary：

【要約】【課題】より過酷な条件のドライエッチング、アッシング、イオン注入等の処理により形成された変質膜の低温での剥離性に優れるとともに、Al、Cu、TiまたはW等の金属膜の形成された基板の腐食防止効果に優れるレジスト用剥離液組成物を提供する。【解決手段】 (a)アルカノールアミン5〜40重量%、(b)N,N-ジエチルヒドロキシルアミン5〜30重量%、(c)ジエチレングリコールモノアルキルエーテル5〜40重量%、(d)糖類2〜30重量%、および(e)水35〜70重量%からなるレジスト用剥離液組成物。

Claim (excerpt)：

(a)アルカノールアミン5〜40重量%、(b)N,N-ジエチルヒドロキシルアミン5〜30重量%、(c)ジエチレングリコールモノアルキルエーテル5〜40重量%、(d)糖類2〜30重量%、および(e)水35〜70重量%からなる、レジスト用剥離液組成物。

IPC (5)：

G03F 7/42 , C11D 7/26 , C11D 7/32 , H01L 21/027 , H01L 21/306

FI (5)：

G03F 7/42 , C11D 7/26 , C11D 7/32 , H01L 21/30 572 B , H01L 21/306 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ポジ型レジスト用剥離液
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-083582 Applicant：東京応化工業株式会社
レジスト用剥離液
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-220410 Applicant：関東化学株式会社
ポジ型フォトレジスト用剥離液および半導体装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-105186 Applicant：日本テキサス・インスツルメンツ株式会社, 関東化学株式会社

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