投影露光装置及び投影露光方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：立石篤司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996177375
Publication number (International publication number)：1997082636
Application date： Jun. 18, 1996
Publication date： Mar. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】凹凸の少ない感光基板に対しては高い追従性を確保するとともに、凹凸の程度の激しい感光基板に対しては制御に破綻をきたすことのない安定な合焦動作を行う。【解決手段】判定部28では、θx'、θy'、z' とθx 、θy 、zとに基づいてX軸及びY軸回りの傾斜量の偏差のいずれもが所定の許容範囲内にあるか否かを判定する。そして、判定部28が肯定的判定を行なっている間、コントローラ31によりθx 、θy 、zとθx'、θy'、z' とに基づいて高精度なフォーカス及びレベリング制御が行なわれる。一方、判定部28が否定的判定を行なっている間は、コントローラにより、Θx 、Θy 、zとΘx'、Θy'、z' とに基づいて傾斜を一定に保ちつつフォーカス制御が行なわれる。

Claim (excerpt)：

パターンが形成されたマスクを照明し、当該マスクのパターンの一部の像を投影光学系を介して基板テーブル上に載置された感光基板上の露光フィールドに投影した状態で、前記マスク及び前記感光基板を前記投影光学系に対して同期して走査する投影露光装置であって、前記感光基板表面の露光フィールド内の前記投影光学系の光軸方向の位置を検出する第1の検出手段と;前記感光基板表面の前記光軸方向の位置及び前記光軸直交面に対する傾斜を調整する調整手段と;前記第1の検出手段からの検出情報に基づいて、前記感光基板表面の露光フィールドの前記光軸方向の第1位置及び前記光軸直交面からの前記露光フィールドの第1傾斜量を算出する演算手段と;前記感光基板表面の露光フィールドの前記光軸方向の目標位置及び目標傾斜量を出力する目標値出力手段と;前記目標値出力手段からの目標値と前記演算手段の算出結果とに基づいて、前記目標位置と第1位置との差及び前記目標傾斜量と前記第1傾斜量との差の少なくとも一方に基づいて定められる前記調整手段に対する制御量の指令値が前記調整手段の制御範囲内にあるか否かを判定する判定手段と;前記判定手段が肯定的判定を行っている間は前記目標位置及び目標傾斜量並びに前記第1位置及び第1傾斜量に基づいて、前記感光基板表面の露光フィールドが前記投影光学系の結像面に一致するように前記調整手段を制御し、前記判定手段が否定的判定を行っている間は前記感光基板表面の傾斜を一定に保ちつつ前記目標位置と前記第1位置とに基づいて、前記感光基板表面の露光フィールドの光軸方向の位置が前記投影光学系の結像面の光軸方向の中心に一致するように前記調整手段を制御する制御手段とを有する投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (7)：

H01L 21/30 526 B , G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 516 B , H01L 21/30 518 , H01L 21/30 525 L , H01L 21/30 525 X

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

露光方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-042426 Applicant：株式会社ニコン
露光方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-103607 Applicant：株式会社ニコン
特開昭56-130738

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