X線発生装置及びこれを備えた投影露光装置及び露光方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999231394
Publication number (International publication number)：2001057298
Application date： Aug. 18, 1999
Publication date： Feb. 27, 2001
Summary：

【要約】【課題】飛散粒子の影響を防止したX線発生装置を得る。【解決手段】本発明のX線発生装置は、プラズマから発生したX線が入射するX線反射光学素子を有するX線発生装置において、前記X線反射光学素子への入射光及び/又は前記X線反射光学素子からの反射光の光路上の該各光路が形成する面に対して平行又は略平行な位置に飛散粒子部材を有する。

Claim (excerpt)：

プラズマから発生したX線が入射するX線反射光学素子を有するX線発生装置において、前記X線反射光学素子への入射光及び/又は前記X線反射光学素子からの反射光の光路上の該各光路が形成する面に対して平行又は略平行な位置に飛散粒子部材を有することを特徴とするX線発生装置。

F-Term (3)：

4C092AA06 , 4C092AB21 , 4C092AC09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

レーザプラズマ光源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-302085 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
X線発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-305199 Applicant：株式会社ニコン
X線発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-127600 Applicant：株式会社ニコン

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