Pat
J-GLOBAL ID：200903061334272758
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000359959
Publication number (International publication number)：2001147516
Application date： Jun. 27, 1997
Publication date： May. 29, 2001
Summary：
【要約】【課題】 高精度のパターニングが可能で、かつ、耐酸性及び信頼性の高い位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランクを提供する。【解決手段】 透明基板10と、この透明基板上に積層されたハーフトーン材料膜11と、このハーフトーン材料膜上に積層された金属膜12を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記金属膜の少なくともハーフトーン材料膜と接する材料を窒素を含有する材料で構成した。
Claim (excerpt)：
透明基板と、この透明基板上に形成されたハーフトーン材料膜と、このハーフトーン材料膜上に形成された金属膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記金属膜の少なくともハーフトーン材料膜と接する材料を窒素を含有する材料で構成したことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク。
IPC (2)：
FI (2)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
Cited by examiner (10)
Show all
Return to Previous Page
