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J-GLOBAL ID：200903061433676909
ハーフトーン位相シフトマスクブランク及びその製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002294863
Publication number (International publication number)：2004133029
Application date： Oct. 08, 2002
Publication date： Apr. 30, 2004
Summary：
【解決手段】透明基板上に、モリブデンと、タンタル、ジルコニウム、クロム及びタングステンから選ばれる1種以上の金属と、酸素、窒素及び炭素から選ばれる1種以上の元素とを含有する金属シリサイド化合物からなる位相シフター膜を有することを特徴とするハーフトーン位相シフトマスクブランク。【効果】本発明によれば、加工性に優れ、かつ耐薬品性、特に耐アルカリ薬品性に優れた、高品質なハーフトーン位相シフトマスクブランクを提供することができる。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
透明基板上に、モリブデンと、タンタル、ジルコニウム、クロム及びタングステンから選ばれる1種以上の金属と、酸素、窒素及び炭素から選ばれる1種以上の元素とを含有する金属シリサイド化合物からなる位相シフター膜を有することを特徴とするハーフトーン位相シフトマスクブランク。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (2)：
Patent cited by the Patent：
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