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J-GLOBAL ID:200903061692116172
感放射線性樹脂組成物
Inventor:
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,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
福沢 俊明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002009054
Publication number (International publication number):2003173026
Application date: Jan. 17, 2002
Publication date: Jun. 20, 2003
Summary:
【要約】【課題】 放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、(A)下記式(1)の化合物等で代表されるラクトン基含有複素環構造を有する(メタ)アクリル酸エステル類と、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸2-メチル-2-アダマンチル、(メタ)アクリル酸2-ノルボルニル-2-n-プロピル等で代表される酸解離性基含有(メタ)アクリル酸エステル類との共重合体からなる樹脂、並びに(B)1-(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ-n-ブタンスルホネート、1-(4-n-ブトキシ-1-ナフチル)テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ-n-オクタンスルホネート等で代表される感放射線性酸発生剤を含有する。【化1】
Claim (excerpt):
(A)下記一般式(1)で表される繰返し単位および下記一般式(2)で表される繰返し単位を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の酸解離性基含有樹脂であって、該酸解離性基が解離したときアルカリ可溶性となる樹脂、並びに(B)下記一般式(3)で表される感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、R1 およびR2 は相互に独立に水素原子またはメチル基をを示す。一般式(2)において、R3 は水素原子またはメチル基を示し、各R4 は相互に独立に炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数4〜20の1価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を示すか、あるいは何れか2つのR4 が相互に結合して、それぞれが結合している炭素原子と共に炭素数4〜20の2価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を形成し、残りのR4 が炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数4〜20の1価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体である。〕【化2】〔一般式(3)において、R5 は炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基もしくはその誘導体を示し、mは1〜8の整数であり、nは0〜5の整数である。〕
IPC (5):
G03F 7/039 601
, C08F220/18
, C08F220/28
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
FI (5):
G03F 7/039 601
, C08F220/18
, C08F220/28
, G03F 7/004 503 A
, H01L 21/30 502 R
F-Term (25):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 4J100AL02Q
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100BA11P
, 4J100BC01Q
, 4J100BC53P
, 4J100CA03
, 4J100DA01
, 4J100DA39
, 4J100DA61
, 4J100EA01
, 4J100JA38
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-018290
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-270685
Applicant:ジェイエスアール株式会社
-
ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-188853
Applicant:日本電気株式会社
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新規なラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパタ-ン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-255167
Applicant:信越化学工業株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-347330
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-321347
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-285762
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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