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J-GLOBAL ID：200903061791387617

インプリント・リソグラフィ

Inventor：
ペーター バルトゥス レオナルド マイヤー

About ペーター バルトゥス レオナルド マイヤー

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アレクセイ ユリーヴィヒ コルスニーチェンコ

About アレクセイ ユリーヴィヒ コルスニーチェンコ


Applicant, Patent owner：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

About エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

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コニンクリユケ フィリップス エレクトロニクス エヌ.ブイ.

About コニンクリユケ フィリップス エレクトロニクス エヌ.ブイ.


Agent (4)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  山本 貴和 ,  吉田 裕
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006114638
Publication number (International publication number)：2006303503
Application date： Apr. 18, 2006
Publication date： Nov. 02, 2006
Summary：
【課題】インプリント・リソグラフィ・プロセスでインプリント可能媒体にインプリントするように構成されたインプリント型板を提供すること【解決手段】このインプリント型板は、インプリント型板の接触面の単位面積当たりのパターン・フィーチャを実質的に充填するために使用されたインプリント可能媒体の体積に対応するパターン密度を有するパターンを有し、インプリント型板接触面のパターンの隣り合う領域は実質的に同じパターン密度を有し、最小限にされたパターン密度差を有し、又は最大限より小さく維持されたパターン密度差を有し、また、それらの隣り合う領域の各々は、基板にインプリントされた後で異なる機能を実現する。【選択図】図4
Claim (excerpt)：
インプリント・リソグラフィ・プロセスでインプリント可能媒体にインプリントするように構成されたインプリント型板であって、前記インプリント型板の接触面の単位面積当たりのパターン・フィーチャを実質的に充填するために使用されたインプリント可能媒体の体積に対応するパターン密度を有するパターンを有し、前記インプリント型板接触面の前記パターンの隣り合う領域が実質的に同じパターン密度を有し、前記隣り合う領域の各々が、基板にインプリントされた後で異なる機能を提供するインプリント型板。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  B81C 5/00
FI (2)：
H01L21/30 502D ,  B81C5/00
F-Term (1)：
5F046BA10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (9)
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Cited by examiner (9)
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Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • Nanoimprint lithography, 20030901, p.45-49
Cited by examiner (1)
  • Nanoimprint lithography, 20030901, p.45-49

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