インプリント・リソグラフィ

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (4)：浅村皓 , 浅村肇 , 山本貴和 , 吉田裕
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006114638
Publication number (International publication number)：2006303503
Application date： Apr. 18, 2006
Publication date： Nov. 02, 2006
Summary：

【課題】インプリント・リソグラフィ・プロセスでインプリント可能媒体にインプリントするように構成されたインプリント型板を提供すること【解決手段】このインプリント型板は、インプリント型板の接触面の単位面積当たりのパターン・フィーチャを実質的に充填するために使用されたインプリント可能媒体の体積に対応するパターン密度を有するパターンを有し、インプリント型板接触面のパターンの隣り合う領域は実質的に同じパターン密度を有し、最小限にされたパターン密度差を有し、又は最大限より小さく維持されたパターン密度差を有し、また、それらの隣り合う領域の各々は、基板にインプリントされた後で異なる機能を実現する。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

インプリント・リソグラフィ・プロセスでインプリント可能媒体にインプリントするように構成されたインプリント型板であって、前記インプリント型板の接触面の単位面積当たりのパターン・フィーチャを実質的に充填するために使用されたインプリント可能媒体の体積に対応するパターン密度を有するパターンを有し、前記インプリント型板接触面の前記パターンの隣り合う領域が実質的に同じパターン密度を有し、前記隣り合う領域の各々が、基板にインプリントされた後で異なる機能を提供するインプリント型板。

IPC (2)：

H01L 21/027 , B81C 5/00

FI (2)：

H01L21/30 502D , B81C5/00

F-Term (1)：

5F046BA10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

半導体デバイス製造におけるパターン転写方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-243369 Applicant：株式会社石川製作所, 松村英樹
封止成形装置及びそれを用いた封止成形体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-023979 Applicant：筑波精工株式会社
金型装置及び圧縮成形装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-171861 Applicant：アピックヤマダ株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

Nanoimprint lithography, 20030901, p.45-49

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