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J-GLOBAL ID:200903061836476489
感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 矢澤 清純
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006066356
Publication number (International publication number):2007241107
Application date: Mar. 10, 2006
Publication date: Sep. 20, 2007
Summary:
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、100nm以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、現像欠陥が改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)特定の繰り返し単位を有する樹脂を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
Claim (excerpt):
(A)下記一般式(I)又は(II)で表される部分構造を有する基を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (3):
G03F 7/039
, H01L 21/027
, C08F 20/10
FI (3):
G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
, C08F20/10
F-Term (41):
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025FA17
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL26P
, 4J100AL26Q
, 4J100AL31Q
, 4J100AM05P
, 4J100AR11P
, 4J100AR21P
, 4J100BA02Q
, 4J100BA04Q
, 4J100BA11P
, 4J100BA15P
, 4J100BC02Q
, 4J100BC03Q
, 4J100BC04Q
, 4J100BC07Q
, 4J100BC08P
, 4J100BC08Q
, 4J100BC09P
, 4J100BC09Q
, 4J100BC12Q
, 4J100BC53P
, 4J100CA01
, 4J100CA03
, 4J100JA38
Patent cited by the Patent: