化学蒸着反応炉及びこれを利用した薄膜形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高田守 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001505047
Publication number (International publication number)：2003502501
Application date： Jun. 19, 2000
Publication date： Jan. 21, 2003
Summary：

【要約】本発明は、反応ガスの供給を素早く切換え得る化学蒸着装置の反応炉及びこれを利用した薄膜形成方法を提供する。この反応炉は、反応ガスの流出入口を有し、反応炉内部より低い圧力を有する反応炉の他の箇所から反応ガスを隔離させるための反応炉蓋と、突出部を有し前記突出部とともに前記反応炉蓋に装着され、前記流出入口を通過するガスの流れを前記蓋との隙間により調節するガス流れ調節板と、前記反応炉蓋と接触して反応室を形成し、前記反応室に設けられる基板を支持する基板支持板とを備える。蒸着ガス、反応ガス及びパージガスからなるプロセスガスを時分割的に周期的に組合わせして反応炉に供給することによって、基板上に膜を形成する化学蒸着法を進行し、各プロセスガスの少なくともいずれか一つの供給周期と同期して、これを活性化させるためのプラズマを基板上で発生させる。

Claim (excerpt)：

化学蒸着装置の反応炉であって、反応ガスの流出入口を有し、反応炉内部より低い圧力を有する反応炉の他の箇所から反応ガスを隔離させるための反応炉蓋と、突出部を有し前記突出部とともに前記反応炉蓋に装着され、前記流出入口を通過するガスの流れを前記蓋との隙間により調節するガス流れ調節板と、前記反応炉蓋と接触して反応室を形成し、前記反応室に設けられる基板を支持する基板支持板とを含むことを特徴とする反応炉。

F-Term (9)：

4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030DA06 , 4K030DA09 , 4K030FA03 , 4K030KA11 , 4K030KA12 , 4K030KA14 , 4K030KA22

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (11)

特開昭64-073619
特表平6-508659
特開平4-106392

Show all

Return to Previous Page