感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福沢俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997244856
Publication number (International publication number)：1999072920
Application date： Aug. 27, 1997
Publication date： Mar. 16, 1999
Summary：

【要約】【課題】各種の放射線に有効に感応し、解像度およびパターン形状が優れるとともに、特に狭スペースの加工性能に優れ、かつPEDの影響が小さく、多様な微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができる化学増幅型ポジ型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、(A)ヒドロキシ(αーメチル)スチレン類に由来する繰返し単位、t-ブチル(メタ)アクリレートに由来する繰返し単位およびt-ブトキシ(αーメチル)スチレン類に由来する繰返し単位を含む共重合体、(B)感放射線性酸発生剤、並びに(C)酸拡散制御剤を含有する。

Claim (excerpt)：

(A)下記式(1)で表される繰返し単位、下記式(2)で表される繰返し単位および下記式(3)で表される繰返し単位を含む共重合体、(B)感放射線性酸発生剤、並びに(C)酸拡散制御剤を含有することを特徴とする感放射線性組成物。【化1】(式中、R1 は水素原子またはメチル基を示す。)【化2】(式中、R2 は水素原子またはメチル基を示す。)【化3】(式中、R3 は水素原子またはメチル基を示し、R4 は炭素数4〜10の3級アルキル基を示す。)

IPC (5)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/033 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/033 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

遠紫外線用レジスト組成物及びこれを用いた微細パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-083199 Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
新規ヨ-ドニウム塩及び化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-309848 Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
高分子化合物及び化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-090203 Applicant：信越化学工業株式会社

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