洗浄剤組成物及び洗浄方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：細田芳徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997288553
Publication number (International publication number)：1999116984
Application date： Oct. 21, 1997
Publication date： Apr. 27, 1999
Summary：

【要約】【課題】固体状微粒子や油性汚れの付着した半導体基板又は半導体素子の洗浄性に優れ、かつ泡立ちの少ない洗浄剤組成物を提供すること、並びに、固体状微粒子や油性汚れの付着した半導体基板又は半導体素子の洗浄性に優れ、かつ泡立ちの少ない洗浄方法を提供すること。【解決手段】分子中に2個以上のホスホン酸基を有する化合物を含有してなる、半導体基板用又は半導体素子用洗浄剤組成物、並びに該洗浄剤組成物を用いて洗浄する半導体基板又は半導体素子の洗浄方法。

Claim (excerpt)：

分子中に2個以上のホスホン酸基を有する化合物を含有してなる、半導体基板用又は半導体素子用洗浄剤組成物。

IPC (6)：

C11D 1/12 , C11D 10/02 , H01L 21/304 341 , C11D 1:12 , C11D 1:66 , C11D 7:26

FI (3)：

C11D 1/12 , C11D 10/02 , H01L 21/304 341 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

半導体基板の洗浄液
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-052580 Applicant：三菱瓦斯化学株式会社
半導体基板の洗浄液
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-055736 Applicant：三菱瓦斯化学株式会社
半導体ウェーハ処理液
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-103191 Applicant：株式会社東芝

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