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J-GLOBAL ID：200903018255761686

露光装置及び露光方法、デバイス製造方法

Inventor：
長坂 博之

About 長坂 博之

, 
馬込 伸貴

About 馬込 伸貴


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (4)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003412585
Publication number (International publication number)：2004207711
Application date： Dec. 10, 2003
Publication date： Jul. 22, 2004
Summary：
【課題】 液浸法で露光処理する場合において基板の外側に液体が流出しても環境変動を抑えて精度良くパターン転写できる露光装置を提供する。【解決手段】 露光装置は、投影光学系PLと基板Pとの間の少なくとも一部を液体50で満たすとともに、投影光学系PLを介してパターンの像を基板P上に投影して、基板Pを露光する。基板Pを移動するときに液体50と接触する部分である光学素子60及び鏡筒PKには、液体50との親和性を調整する表面処理が施されている。投影光学系と基板の間の液体に気泡が生ずることが防止され、また、投影光学系と基板の間に液体が常に維持されるので、良好な液浸状態が形成される。【選択図】 図4
Claim (excerpt)：
パターンの像を液体を介して基板上に転写して基板を露光する露光装置であって: 前記パターンの像を基板に投影する投影光学系を備え; 前記投影光学系の前記液体と接触する部分は、液体との親和性を調整するために表面処理されている露光装置。
IPC (2)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (2)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521
F-Term (6)：
5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (14)
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Cited by examiner (13)
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