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J-GLOBAL ID：200903062809701779

レーザ光照射測定装置

Inventor：
鈴木 敏

About 鈴木 敏

, 
高林 正樹

About 高林 正樹


Applicant, Patent owner：
パルステック工業株式会社

About パルステック工業株式会社


Agent (1)： 加藤 道幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006150681
Publication number (International publication number)：2007322177
Application date： May. 30, 2006
Publication date： Dec. 13, 2007
Summary：
【課題】 照射レーザ光のみをガルバノミラーによって走査し反射光をそのまま受光器で受光する装置の場合でも、レーザ光の強度制御において制御に遅れが発生せず、又は外乱光の影響を受けにくく、測定精度の高いレーザ光照射測定装置を提供することにある。【解決手段】 受光器の受光面から反射する受光面反射光を集光する集光レンズと、集光レンズにより集光された受光面反射光の受光量を検出するフォトセンサと、フォトセンサによって検出された受光量に応じてレーザ光照射器から対象物に照射されるレーザ光の光量を補正するレーザ光量補正手段とを備えることを特徴とする。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
対象物に向けてレーザ光を照射して該対象物の表面に照射スポットを形成するレーザ光照射器と、該対象物の表面からの反射光を該レーザ光照射器から該対象物の表面の照射スポットまでの距離に応じた位置にて受光する受光器とを有し、該受光器にて受光した反射光の位置に応じて該レーザ光照射器から該対象物の表面の照射スポットまでの距離又は該対象物の表面の3次元形状を測定するレーザ光照射測定装置において、 該受光器の受光面から反射する受光面反射光を集光する集光レンズと、 該集光レンズにより集光された該受光面反射光の受光量を検出するフォトセンサと、 該フォトセンサによって検出された受光量に応じて該レーザ光照射器から該対象物に照射されるレーザ光の光量を補正するレーザ光量補正手段とを備えることを特徴とするレーザ光照射測定装置。
IPC (4)：
G01C 3/06 ,  G01B 11/24 ,  G01S 17/48 ,  G01S 17/89
FI (5)：
G01C3/06 110A ,  G01C3/06 140 ,  G01B11/24 A ,  G01S17/48 ,  G01S17/89
F-Term (70)：
2F065AA04 ,  2F065AA06 ,  2F065AA53 ,  2F065DD03 ,  2F065DD04 ,  2F065EE03 ,  2F065FF04 ,  2F065FF09 ,  2F065FF41 ,  2F065FF66 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ18 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL13 ,  2F065LL62 ,  2F065MM16 ,  2F065NN02 ,  2F065NN08 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ34 ,  2F065QQ51 ,  2F112AA09 ,  2F112BA01 ,  2F112CA08 ,  2F112CA12 ,  2F112DA04 ,  2F112DA09 ,  2F112DA15 ,  2F112DA25 ,  2F112DA28 ,  2F112DA32 ,  2F112EA05 ,  2F112EA09 ,  2F112EA11 ,  2F112FA03 ,  2F112FA14 ,  2F112FA25 ,  2F112FA33 ,  2F112FA45 ,  2F112GA01 ,  5J084AA04 ,  5J084AA05 ,  5J084AD07 ,  5J084BA03 ,  5J084BA32 ,  5J084BA36 ,  5J084BA40 ,  5J084BA48 ,  5J084BB02 ,  5J084BB26 ,  5J084BB28 ,  5J084CA03 ,  5J084CA10 ,  5J084CA27 ,  5J084CA28 ,  5J084CA31 ,  5J084CA53 ,  5J084CA67 ,  5J084CA72 ,  5J084DA01 ,  5J084DA07 ,  5J084DA08 ,  5J084DA10 ,  5J084EA01 ,  5J084EA04 ,  5J084EA11
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (10)
  • 光ビーム照射測定装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-331902   Applicant：パルステック工業株式会社
  • レーザ発光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-342250   Applicant：松下電工株式会社
  • 特開昭57-044809
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