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J-GLOBAL ID:200903063002232640

硬質炭素薄膜及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 目次 誠 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997259833
Publication number (International publication number):1999100294
Application date: Sep. 25, 1997
Publication date: Apr. 13, 1999
Summary:
【要約】【課題】 高い膜硬度を有し、かつ基板等の下地層に対する密着性に優れた硬質炭素被膜及びその製造方法を得る。【解決手段】 基板1上に設けられる硬質炭素薄膜において、薄膜2を構成する炭素原子のSP2 /SP3 比が基板1側から表面側に向かって減少する傾斜構造を有することを特徴としている。
Claim (excerpt):
薄膜を構成する炭素原子のSP2 結合/SP3 結合の比が下地側から表面側に向かって減少する傾斜構造を有することを特徴とする硬質炭素薄膜。
IPC (5):
C30B 29/04 ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/314
FI (5):
C30B 29/04 B ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/314 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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