Pat
J-GLOBAL ID：200903063196574155

3次元形状測定装置

Inventor：
藤井 章弘

About 藤井 章弘


Applicant, Patent owner：
オリンパス株式会社

About オリンパス株式会社


Agent (4)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  村松 貞男 ,  風間 鉄也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004021514
Publication number (International publication number)：2005214787
Application date： Jan. 29, 2004
Publication date： Aug. 11, 2005
Summary：
【課題】 測定対象物の全ての領域でコントラストのよい変形パターン画像を取得できる3次元形状測定装置を提供する。【解決手段】 光源3を有し、該光源3からの光が照射される格子パターン41の像を測定対象物1に対し所定角度傾けて投影するパターン投影手段2、測定対象物1からの反射光より取得されるパターン像を変形パターン像として撮像する撮像素子12を有する撮像光学手段8、パターン投影手段2の光路に配置され、光源3からの光のうち特定偏光成分の光を透過させる第1の偏光光学素子6および撮像光学手段8の光路に配置され、第1の偏光光学素子6を透過した特定偏光成分の光の透過を制限する第2の偏光光学素子10を具備する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
光源を有し、該光源からの光が照射されるパターンの像を測定対象物に対し所定角度傾けて投影するパターン投影手段と、 前記測定対象物に投影されるパターン像を変形パターン像として撮像素子に結像させる撮像光学手段と、 前記パターン投影手段の光路に配置され、前記光源からの光のうち特定偏光成分の光を透過させる第1の偏光光学素子と、 前記撮像光学手段の光路に配置され、前記第1の偏光光学素子を透過した特定偏光成分の光の透過を制限する第2の偏光光学素子と を具備したことを特徴とする3次元形状測定装置。
IPC (2)：
G01B11/25 ,  G01B11/24
FI (2)：
G01B11/24 E ,  G01B11/24 K
F-Term (14)：
2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065DD09 ,  2F065FF06 ,  2F065FF49 ,  2F065GG02 ,  2F065GG03 ,  2F065HH06 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL33 ,  2F065LL41
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 表面形状3次元計測方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-148208   Applicant：松下電工株式会社
Cited by examiner (7)
  • 特開平4-278406
  • 光学式位置検出装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-351702   Applicant：株式会社ニコン
  • 特開平4-278406
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM