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J-GLOBAL ID：200903063256580567

日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法、日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子および日射遮蔽体形成用分散液並びに日射遮蔽体

Inventor：
長南 武

About 長南 武

, 
足立 健治

About 足立 健治


Applicant, Patent owner：
住友金属鉱山株式会社

About 住友金属鉱山株式会社


Agent (3)： 阿仁屋 節雄 ,  油井 透 ,  清野 仁
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004352052
Publication number (International publication number)：2005187323
Application date： Dec. 03, 2004
Publication date： Jul. 14, 2005
Summary：
【課題】 可視光透過率を高く保ったまま、赤外線の透過率を低くできる日射遮蔽体に用いるタングステン酸化物微粒子とその製造方法、当該タングステン酸化物微粒子を用いた日射遮蔽体形成用分散液および日射遮蔽体を提供する。【解決手段】 タングステン酸を大気中で焼成して焼成粉とし、当該焼成粉をN2ガスをキャリアとしたH2ガスを供給しながら加熱して還元処理を行い、日射遮蔽体に用いるタングステン酸化物微粒子を得、当該微粒子と、高分子系分散剤と、トルエンとを混合し、粉砕・分散処理することによって日射遮蔽体形成用分散液を製造した。製造された当該分散液と、UV硬化樹脂と、トルエンとを、混合・攪拌して日射遮蔽体形成用分散液を調製し、当該日射遮蔽体形成用分散液を樹脂フィルム上へ塗布した後、UVを照射し日射遮蔽体を得た。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
タングステン酸(H2WO4)、または、タングステン酸(H2WO4)と三酸化タングステン微粒子との混合物を、不活性ガスまたは不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下で焼成することにより、一般式WyOz(但し、Wはタングステン、Oは酸素、2.2≦z/y≦2.999)で表されるタングステン酸化物微粒子を生成させることを特徴とする日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法。
IPC (4)：
C01G41/00 ,  C01B33/20 ,  C03C17/32 ,  C23C30/00
FI (4)：
C01G41/00 A ,  C01B33/20 ,  C03C17/32 A ,  C23C30/00 C
F-Term (39)：
4C083AB21 ,  4C083CC19 ,  4C083DD17 ,  4C083FF01 ,  4G048AA02 ,  4G048AA03 ,  4G048AA05 ,  4G048AB01 ,  4G048AC08 ,  4G048AD04 ,  4G048AE05 ,  4G048AE07 ,  4G059AA01 ,  4G059AC06 ,  4G059AC07 ,  4G059EA01 ,  4G059EB05 ,  4G059FA07 ,  4G059FA09 ,  4G059FA28 ,  4G059FB03 ,  4G073BA30 ,  4G073BA63 ,  4G073BA84 ,  4G073BD01 ,  4G073BD22 ,  4G073CD01 ,  4G073GA03 ,  4G073GA33 ,  4G073GB09 ,  4G073UB31 ,  4K044AA12 ,  4K044AA16 ,  4K044AB02 ,  4K044BA12 ,  4K044BB01 ,  4K044BC12 ,  4K044CA27 ,  4K044CA53
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (15)
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Cited by examiner (10)
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Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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