Pat
J-GLOBAL ID：200903063299693403

近接場光を発生させる構造体、該構造体を有する近接場光ヘッド、該ヘッドを有する記録再生装置及び表面観察装置

Inventor：
山田 朋宏

About 山田 朋宏

, 
水谷 夏彦

About 水谷 夏彦


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 長尾 達也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003323252
Publication number (International publication number)：2005091096
Application date： Sep. 16, 2003
Publication date： Apr. 07, 2005
Summary：
【課題】強度のより向上した近接場光を得ることができ、また近接場光発生領域の広がりを小さく抑えることが可能となる近接場光を発生させる構造体、該構造体を有する近接場光ヘッド、該ヘッドを有する記録再生装置及び表面観察装置を提供する。【解決手段】偏光制御された光源からの入射光の波長以下のサイズの微小開口を有し、該微小開口に金属小片が配置された金属遮光膜からなる近接場光を発生させる構造体であって、前記金属小片における前記入射光の偏光面を含む面内の断面形状を、前記微小開口の中心に対して非対称に構成する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
偏光制御された光源からの入射光の波長以下のサイズの微小開口を有し、該微小開口に金属小片が配置された金属遮光膜からなる近接場光を発生させる構造体であって、 前記金属小片における前記入射光の偏光面を含む面内の断面形状が、前記微小開口の中心に対して非対称に構成されていることを特徴とする近接場光を発生させる構造体。
IPC (5)：
G01N13/14 ,  G01N13/10 ,  G11B7/12 ,  G11B7/135 ,  G12B21/06
FI (5)：
G01N13/14 B ,  G01N13/10 G ,  G11B7/12 ,  G11B7/135 A ,  G12B1/00 601C
F-Term (4)：
5D789AA22 ,  5D789BB03 ,  5D789CA22 ,  5D789JA13
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
Show all
Cited by examiner (7)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM