X線マスクおよびその製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：深見久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998193225
Publication number (International publication number)：2000031008
Application date： Jul. 08, 1998
Publication date： Jan. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】高い位置精度を有する転写用回路パターンを備え、簡略化した製造工程で製造することが可能なX線マスクおよびその製造方法を提供する。【解決手段】支持部材1と、支持部材1上に形成されたX線吸収体3とを備えるX線マスクの製造方法であって、X線吸収体3上にマスク層4を形成する。支持部材1に位置基準マーク8を含む位置検出部材31を固定する。位置基準マーク8をマスク層4の位置検出に用いながら、マスク層4にマスクパターンを描画する。

Claim (excerpt)：

支持部材と、前記支持部材上に形成されたX線吸収体とを備えるX線マスクの製造方法であって、前記X線吸収体上にマスク層を形成する工程と、前記支持部材に、位置基準マークを含む位置検出部材を固定する工程と、前記位置基準マークを前記マスク層の位置検出に用いながら、前記マスク層にマスクパターンを描画する工程とを備える、X線マスクの製造方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 1/16

FI (3)：

H01L 21/30 531 M , G03F 1/16 A , H01L 21/30 531 J

F-Term (14)：

2H095BA10 , 2H095BC08 , 2H095BC28 , 2H095BC30 , 2H095BE03 , 2H095BE08 , 2H095BE09 , 2H095BE10 , 5F046GD04 , 5F046GD12 , 5F046GD15 , 5F046GD17 , 5F046GD19 , 5F046GD20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

X線マスク及びそのアライメント方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-118036 Applicant：三菱電機株式会社
X線マスクの製造方法及びそれにより得られたX線マスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-189677 Applicant：三菱マテリアル株式会社, 三菱電機株式会社
特開昭63-104327

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