投影露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大森聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995087853
Publication number (International publication number)：1996288192
Application date： Apr. 13, 1995
Publication date： Nov. 01, 1996
Summary：

【要約】【目的】レチクルR上のパターンを感光性の基板に投影する投影露光装置において、他の収差に影響を与えることなくディストーションを補正する。【構成】レチクルRのパターンを投影光学系PLを介して走査露光方式でウエハW上に投影する。レチクルRに対向する上面が投影光学系PLの光軸IXに垂直で下面が傾斜した光学くさび12と、下面が光軸IXに垂直で上面が光学くさび12の下面と平行に傾斜した光学くさび13とからなる像歪補正体31を、レチクルRと投影光学系PLとの間に配置する。光学くさび12,13を光学部材制御系14により光軸IXに垂直な走査方向に逆方向に移動することにより像歪補正体31中の照明光ILの光路長を変化させて連続的にディストーションを補正する。

Claim (excerpt)：

露光用の照明光のもとで、マスクに形成された転写用のパターンの像を投影光学系を介して感光性の基板上に投影する投影露光装置において、前記マスクと前記基板との間に配置された厚さの変更自在な光透過性基板と、該光透過性基板の厚さを切り換えることにより前記照明光の光路長を変える光路長切換手段と、を設け、前記光路長切換手段を介して前記光透過性基板の厚さを変更して投影像の像歪みを調整することを特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (5)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 B , H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 516 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

収差補正光学系
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-256486 Applicant：キヤノン株式会社
投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-136886 Applicant：キヤノン株式会社
特開平2-166719

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