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J-GLOBAL ID：200903064129888036

シンチレータパネルおよびその製造方法

Inventor：
佐藤 宏人

About 佐藤 宏人

, 
高林 敏雄

About 高林 敏雄

, 
鈴木 孝治

About 鈴木 孝治


Applicant, Patent owner：
浜松ホトニクス株式会社

About 浜松ホトニクス株式会社


Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002062435
Publication number (International publication number)：2003262671
Application date： Mar. 07, 2002
Publication date： Sep. 19, 2003
Summary：
【要約】【課題】 金属反射膜のシンチレータ成分による劣化をさらに効果的に抑制することが可能なシンチレータパネルおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 基板10上に設けられた金属反射膜11を覆い、さらに基板10の側壁を覆って少なくとも裏面の縁にまで達している保護有機膜12を設け、その上の金属反射膜11部分にシンチレータ13を蒸着により選択的に形成した後に、耐湿保護膜14でシンチレータ13と選択領域外に付着したシンチレータ成分ごと覆う。
Claim (excerpt)：
放射線透過性の基板と、前記基板の一方の表面上に形成された金属反射膜と、前記金属反射膜を覆うとともに、前記基板の少なくとも側壁まで覆っている保護有機膜と、前記金属反射膜上の前記保護有機膜上に蒸着によって多数の針状結晶として形成されたアルカリハライド系のシンチレータと、前記シンチレータを覆う防湿有機膜と、を備えており、前記保護有機膜は、前記シンチレータ蒸着時におけるシンチレータ成分の前記基板および前記金属反射膜への付着を防止し、前記防湿有機膜は、前記保護有機膜上に付着したシンチレータ成分を含めて覆っていることを特徴とするシンチレータパネル。
IPC (4)：
G01T 1/20 ,  G21K 4/00 ,  H04N 5/32 ,  H04N 5/335
FI (5)：
G01T 1/20 B ,  G01T 1/20 D ,  G21K 4/00 B ,  H04N 5/32 ,  H04N 5/335 U
F-Term (24)：
2G083AA04 ,  2G083AA08 ,  2G083BB01 ,  2G083CC01 ,  2G083CC03 ,  2G083CC04 ,  2G083CC05 ,  2G083CC08 ,  2G083DD01 ,  2G083DD02 ,  2G083EE08 ,  2G088EE01 ,  2G088FF02 ,  2G088GG10 ,  2G088GG16 ,  2G088GG19 ,  2G088GG20 ,  2G088JJ05 ,  2G088JJ37 ,  2G088LL30 ,  5C024AX11 ,  5C024AX16 ,  5C024CY47 ,  5C024EX21
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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