フォーカスリングおよびそのための方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：五十嵐孝雄 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000525906
Publication number (International publication number)：2001527285
Application date： Dec. 11, 1998
Publication date： Dec. 25, 2001
Summary：

【要約】【課題】プラズマ処理チャンバ内で使用するように構成される、改良フォーカスリングを開示する。【解決手段】このフォーカスリングは、プラズマ処理の最中に高周波(RF)電源で通電されて電極として作用する基板保持チャックの少なくとも一部分に重なるように構成される。このフォーカスリングは、プラズマ処理の最中にプラズマ処理チャンバ内のプラズマ領域に露出する上部表面を有する。このフォーカスリングはさらに、基板保持チャックの一部分に重なり、少なくとも一部分はフォーカスリングの残りの部分より低誘電率の第1の材料で形成されるチャック重なり部分を備える。

Claim (excerpt)：

プラズマ処理チャンバで使用するように構成されるとともに、プラズマ処理の最中に高周波(RF)電源で通電されて電極として作用する基板保持チャックの少なくとも一部分に重なるように構成される、フォーカスリングであって、前記プラズマ処理の最中に前記プラズマ処理チャンバ内のプラズマ領域に露出する上面と、前記基板保持チャックの前記一部分に重なり、少なくとも一部分は前記フォーカスリングの残りの部分より低誘電率の第1の材料で形成される、チャック重なり部分と、を備えるフォーカスリング。

IPC (5)：

H01L 21/3065 , H01J 37/32 , H01L 21/205 , H05H 1/46 , C23C 16/505

FI (5)：

H01J 37/32 , H01L 21/205 , H05H 1/46 L , C23C 16/505 , H01L 21/302 C

F-Term (23)：

4K030FA01 , 4K030FA04 , 4K030GA02 , 4K030KA30 , 4K030KA46 , 4K030LA15 , 5F004AA16 , 5F004BA08 , 5F004BA14 , 5F004BA20 , 5F004BB13 , 5F004BB22 , 5F004BB23 , 5F004BB28 , 5F004BB29 , 5F045AA08 , 5F045BB08 , 5F045DP03 , 5F045EH11 , 5F045EH12 , 5F045EH16 , 5F045EH17 , 5F045EM01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平2-268430
減圧処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-114261 Applicant：東京エレクトロン株式会社
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-022736 Applicant：東京エレクトロン株式会社

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