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J-GLOBAL ID:200903045088757768

非均一な磁界を有する磁気励起プラズマチャンバ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 長谷川 芳樹 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997360401
Publication number (International publication number):1998233390
Application date: Dec. 26, 1997
Publication date: Sep. 02, 1998
Summary:
【要約】【課題】 ワークピースの表面の上に一様なイオン流束の瞬間分布を生成する。具体的には、我々の発明において磁気励起は、新規な磁界パターンを生成するマグネットによってなされる。ワークピースに平行且つこれに隣接する領域内では、その地点における磁界の方向が、(1)その点における磁界の大きさの勾配と(2)ワークピース面から垂直にプラズマの方へ延びるベクトルとのベクトル外積となるように、瞬間磁界の大きさと方向が関連している。【解決手段】 磁気励起は、新規な磁界パターンを生成するマグネットによってなされる。ワークピースに平行且つこれに隣接する領域内では、その地点における磁界の方向が、(1)その点における磁界の大きさの勾配と(2)ワークピース面から垂直にプラズマの方へ延びるベクトルとのベクトル外積となるように、瞬間磁界の大きさと方向が関連している。
Claim (excerpt):
プラズマから半導体ワークピース表面へのイオン流束の瞬間的な空間的均一性を向上する磁気励起プラズマチャンバであって、平坦な半導体ワークピースを保持することにより、ワークピースがワークピース領域を占めるようなる、ワークピース保持のためのチャックと、該ワークピース領域の上方の第1の領域にプラズマを生成するプラズマソースと、平坦な第2の領域に磁界を発生させるためのマグネットであって、該第2の領域のあらゆる地点において磁界の方向が、(i)該地点における磁界の大きさの勾配と、(ii)ワークピースからプラズマに向かって垂直に伸びるベクトルと、のベクトル外積にほぼ等しい、前記マグネットとを備え、該第2の領域が該ワークピース領域と平行且つ該ワークピース領域に隣接しており、また、該第2の領域が該ワークピース領域の表面積の少なくとも半分となる表面積を有する、磁気励起プラズマチャンバ。
IPC (5):
H01L 21/3065 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46
FI (5):
H01L 21/302 B ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 M
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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