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J-GLOBAL ID:200903064464415657
カーボンナノチューブの製造方法
Inventor:
,
,
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Applicant, Patent owner:
Agent (4):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003330049
Publication number (International publication number):2005097015
Application date: Sep. 22, 2003
Publication date: Apr. 14, 2005
Summary:
【課題】 単層/多層の層制御や直線状、螺旋状等の形状制御が可能であると共に、径や長さ、配向性の均一なカーボンナノチューブを大量生成することが可能なカーボンナノチューブの製造方法を提供する。【解決手段】 カーボンナノチューブの製造方法において、真空中、触媒金属を担持しかつ所定温度に加熱された触媒担持体に原料ガスをイオン化して供給する。【選択図】 図3
Claim (excerpt):
真空中、触媒金属を担持しかつ所定温度に加熱された触媒担持体に、原料ガスをイオン化して供給しカーボンナノチューブを生成するカーボンナノチューブ生成工程を含むことを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (23):
4G146AA11
, 4G146AA12
, 4G146AC03B
, 4G146AC22B
, 4G146BA11
, 4G146BA12
, 4G146BA48
, 4G146BB23
, 4G146BC02
, 4G146BC15
, 4G146BC25
, 4G146BC27
, 4G146BC32A
, 4G146BC33A
, 4G146BC33B
, 4G146BC34A
, 4G146BC35A
, 4G146BC36A
, 4G146BC37B
, 4G146BC42
, 4G146BC43
, 4G146BC44
, 4G146CB29
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (7)
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カーボンナノチューブの製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-008461
Applicant:キヤノン株式会社
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カーボンナノチューブ薄膜形成ECRプラズマCVD装置及び該薄膜の形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-000299
Applicant:日本真空技術株式会社
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エンジンの吸気装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-360623
Applicant:スズキ株式会社
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フラーレンの製造装置およびその回収方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-283620
Applicant:真空冶金株式会社
-
グラファイトナノファイバー薄膜形成用熱CVD装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-380414
Applicant:株式会社アルバック
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成膜方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-334404
Applicant:株式会社アルバック, 独立行政法人産業技術総合研究所
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水素吸蔵炭素質材料の製造方法および水素吸蔵炭素質材料製造システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-164263
Applicant:ソニー株式会社
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