Pat
J-GLOBAL ID：200903064481105700

微粒子発生方法及び装置

Inventor：
屋代 英彦

About 屋代 英彦

, 
富江 敏尚

About 富江 敏尚


Applicant, Patent owner：
独立行政法人産業技術総合研究所

About 独立行政法人産業技術総合研究所


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005139128
Publication number (International publication number)：2006314900
Application date： May. 11, 2005
Publication date： Nov. 24, 2006
Summary：
【課題】 レーザー光を固体に照射し溶融、プラズマの衝撃により発生する「レーザーアブレーション」においては、微粒子は、粒径分布が数十nmから数μmまでと広く、必要とされるサブμmの微粒子の割合を大きくすることができない。また、溶融した物質の一部しか微粒子として飛散しないため、パルスレーザー1ショットにより発生される微粒子量が十分でないなどの問題がある。また、気化物質を気中で凝集する方法においては、微粒子径を数十nm以上にするのは容易ではないという問題がある。【解決手段】 微粒子化すべき物質を透明な基板の上に蒸着等により付着させ、基板に対して透明な波長のレーザーを基板側から照射して該付着させた物質を微粒子として放出することにより上記課題を解決することができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
微粒子発生方法であって、微粒子化すべき物質を透明な基板の上に付着させ、該基板に対して透明な波長のレーザーを基板側から照射することにより、該物質を微粒子として放出することを特徴とする微粒子発生方法。
IPC (3)：
B01J 19/12 ,  B22F 9/02 ,  H05G 2/00
FI (3)：
B01J19/12 H ,  B22F9/02 Z ,  H05G1/00 K
F-Term (25)：
4C092AA06 ,  4C092AB10 ,  4C092AC09 ,  4G075AA27 ,  4G075BB10 ,  4G075BC01 ,  4G075CA36 ,  4G075DA02 ,  4G075EB41 ,  4G075FA12 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12 ,  4G075FC04 ,  4K017AA02 ,  4K017BA01 ,  4K017BA02 ,  4K017BA03 ,  4K017BA04 ,  4K017BA05 ,  4K017BA06 ,  4K017BA10 ,  4K017CA03 ,  4K017CA07 ,  4K017DA01 ,  4K017EF05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (10)
Show all
Cited by examiner (12)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM