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J-GLOBAL ID:200903064683045261
水素化物導入法による形態別分析試料前処理方法及び装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
野口 繁雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002378975
Publication number (International publication number):2004212075
Application date: Dec. 27, 2002
Publication date: Jul. 29, 2004
Summary:
【課題】処理全体として簡略化し、作業者の負担を軽減し、処理時間を短くし、結果として測定精度を高める。【解決手段】。反応槽2の底部に配管によりNaBH4溶液が供給され、反応槽2の上部から配管により試料溶液、塩酸及び添加剤が供給される。反応槽2内で生成した揮発性水素化物はヘリウムガスとともに生成ガス配管38を経て取り出され、水蒸気トラップ68及び炭酸ガストラップ70を経て冷却トラップ72に至り、冷却されて捕集される。冷却トラップ72では液体窒素温度で半金属の揮発性水素化物は全て凝縮して捕集され、その温度を上昇させることにより、捕集されていた水素化物が低沸点の形態のものから順次揮発し脱離して分析機器に導かれ、形態別分析が行なわれる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
試料溶液中の測定対象物質を揮発性水素化物に変換して分析装置に供給するために、配管で接続された反応装置内で以下のステップ(A)から(D)を一連の処理として行なわせることを特徴とする試料前処理方法。
(A)所定量の試料溶液を量り取り、前記反応装置の反応槽内に導入するステップ、
(B)前記反応槽内で試料溶液と水素化用反応試薬とを反応させて測定対象物質の揮発性水素化物を発生させる水素化ステップ、
(C)前記水素化物を冷却トラップに導いて捕集する捕集ステップ、及び
(D)前記冷却トラップの温度を上げていくことにより捕集されていた水素化物を低沸点の形態のものから順次脱離させて分析装置に導く形態別分離ステップ。
IPC (4):
G01N1/10
, G01N1/00
, G01N1/28
, G01N1/36
FI (5):
G01N1/10 F
, G01N1/10 E
, G01N1/00 101G
, G01N1/28 K
, G01N1/28 Y
F-Term (15):
2G052AB01
, 2G052AD26
, 2G052AD42
, 2G052CA03
, 2G052CA04
, 2G052CA14
, 2G052EB13
, 2G052FB01
, 2G052FB02
, 2G052FD00
, 2G052GA13
, 2G052GA15
, 2G052GA24
, 2G052HA02
, 2G052HC41
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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珪素化合物ガス中のシロキサンの分析方法とその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-046594
Applicant:日本酸素株式会社
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特開平1-170841
-
硫黄の高感度分析法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-235377
Applicant:住友金属鉱山株式会社
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特開昭55-013840
-
分光分析方法およびその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-031968
Applicant:横河電機株式会社
-
有機塩素化合物分析方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-085752
Applicant:大阪瓦斯株式会社
-
水素化物導入システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-303749
Applicant:株式会社島津製作所
-
液体薬品中の砒素の定量分析法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-259779
Applicant:住友化学工業株式会社, 株式会社住化分析センター
-
特開昭61-213655
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ガストラップ装置、発生ガス分析装置及び発生ガス分析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-161605
Applicant:ティーディーケイ株式会社
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