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J-GLOBAL ID：200903065138724492

加熱装置,加熱装置の評価法及びパタ-ン形成方法

Inventor： 早崎 圭 ,  伊藤 信一 ,  川野 健二
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999081635
Publication number (International publication number)：2000082661
Application date： Mar. 25, 1999
Publication date： Mar. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】 ウェハの加熱量を一定に制御することができ、レジストパターンの寸法ばらつきの低減をはかる。【解決手段】 レジストを塗布したウェハを露光前又は露光後に加熱処理するための加熱装置において、ウェハ407を載置して加熱する熱板408と、ウェハ407に光402を照射し、ウェハ407上のレジスト406からの反射光の強度を検出する光強度検出器404と、検出された反射光強度に基づいて熱板408による加熱を制御する制御部とを備え、複数のウェハに対して加熱量が一定となるようにした。

Claim (excerpt)：

被処理基体を加熱する加熱手段と、前記被処理基体に対し可視光又は紫外光を照射し、該基体からの反射光の強度を検出する光強度検出手段と、前記検出された反射光強度に基づいて前記加熱手段による加熱を制御する加熱制御手段とを具備してなることを特徴とする加熱装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/26 501 ,  G03F 7/30 501

FI (3)：

H01L 21/30 567 ,  G03F 7/26 501 ,  G03F 7/30 501

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

• 特開平2-214864
  
• 特開平2-012909
  
• パターン形成方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-023623   Applicant：ソニー株式会社
• 特開平2-012909
  
• レジストパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-278640   Applicant：松下電器産業株式会社
• パターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-060751   Applicant：松下電器産業株式会社
• レジスト塗布現像装置とレジスト塗布現像方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-019297   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 特開平2-012909
  
• 特開平2-012909
  
• 特開平2-012909
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Metrology sensors for advanced resists