位相回復方式の電子顕微鏡による観察方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：小川勝男 , 田中恭助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005155069
Publication number (International publication number)：2006331901
Application date： May. 27, 2005
Publication date： Dec. 07, 2006
Summary：

【課題】実像と電子回折像を測定する際の微小径かつ平行な電子線を、明るくかつ均一な強度分布にする位相回復方式の電子顕微鏡による観察技術を提供する。【解決手段】位相回復方式の電子顕微鏡にあって、前記実像を観察する際には、収束電子線を試料3の注目領域2に走査しながら照射し、撮像素子11で検出した透過電子線の強度を前記収束電子線の走査と同期させてモニター17に表示することによって前記注目領域2を画像化し、前記電子回折像を観察する際には、前記注目領域2の形状と面積に一致する孔を有する制限視野絞り15を前記試料3の直上に挿入し、静止した平行電子線を前記制限視野絞り15を通して前記試料3の注目領域2に照射し、前記試料3を透過した電子線が作る電子回折像を前記撮像素子11により検出する。【選択図】図5

Claim (excerpt)：

加速した電子線を収束あるいは平行にして試料へ照射する電子線照射系と、前記試料を透過した電子線を撮像素子により検出して実像と電子回折像の強度分布を得る結像系とを備えた位相回復方式の電子顕微鏡にあって、前記実像を観察する際には、前記収束電子線を前記試料の注目領域に走査しながら照射し、前記撮像素子で検出した透過電子線の強度を前記収束電子線の走査と同期させてモニターに表示することによって前記注目領域を画像化し、前記電子回折像を観察する際には、前記注目領域の形状と面積に一致する孔を有する制限視野絞りを前記試料の直上に挿入し、静止した平行電子線を前記制限視野絞りを通して前記試料の注目領域に照射し、前記試料を透過した電子線が作る電子回折像を前記撮像素子により検出することを特徴とする位相回復方式の電子顕微鏡による観察方法。

IPC (2)：

H01J 37/26 , H01J 37/22

FI (2)：

H01J37/26 , H01J37/22 501A

F-Term (4)：

5C033SS03 , 5C033SS06 , 5C033SS07 , 5C033SS10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

複合電子顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-063728 Applicant：日本電子株式会社
電子線回折装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-363572 Applicant：ソニー株式会社, 日本電子株式会社
走査電子顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-267842 Applicant：株式会社日立製作所

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Cited by examiner (5)

複合電子顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-063728 Applicant：日本電子株式会社
電子線回折装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-363572 Applicant：ソニー株式会社, 日本電子株式会社
走査電子顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-267842 Applicant：株式会社日立製作所

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Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

Atomic Resolution Imaging of a Carbon Nanotube form Diffraction Intensities

Cited by examiner (1)

Atomic Resolution Imaging of a Carbon Nanotube form Diffraction Intensities

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