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J-GLOBAL ID：200903066246419210

化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩

Inventor：
井上 博貴

About 井上 博貴

, 
上谷 保則

About 上谷 保則


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000255119
Publication number (International publication number)：2002030067
Application date： Aug. 25, 2000
Publication date： Jan. 29, 2002
Summary：
【要約】【課題】 透過率や解像度が高く、良好なプロファイルを与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂及び酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物であって、該酸発生剤として、下式(I)で示されるスルホニウム塩と、(IIa)及び(IIb)(式中、式中、Q1、Q2、Q3、Q4は互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基を表すか、Q1とQ2、Q3とQ4が互いに独立に隣接する硫黄原子と一緒になってさらに酸素原子、硫黄原子を含んでいてもよい炭素数2〜8の脂環基を表し、mは1〜8の整数を表す。Q5 、Q6、Q7、Q8 及びQ9 は互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル又はアルコキシ、p及びqは1〜8の整数を表す)で示される塩から選ばれる少なくとも1種の塩とを併用する。また、式(I)のスルホニウム塩化合物も提供される。
Claim (excerpt)：
下式(I)(式中、Q1、Q2、Q3、Q4は互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基を表すか、Q1とQ2、Q3とQ4が互いに独立に隣接する硫黄原子と一緒になってさらに酸素原子、硫黄原子を含んでいてもよい炭素数2〜8の脂環基を表し、mは1〜8の整数を表す)で示される脂肪族スルホニウム塩と、下式(IIa)で示されるトリフェニルスルホニユム塩及び下式(IIb)で示されるジフェニルヨードニユム塩(式中、Q5 、Q6、Q7、Q8 及びQ9 は互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル又は炭素数1〜6のアルコキシを表し、q及びpは1〜8の整数を表す)から選ばれる少なくとも1種のオニウム塩とを含む酸発生剤並びに、酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (7)：
C07C381/12 ,  C07D333/46 ,  C08K 5/42 ,  C08L 33/06 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (7)：
C07C381/12 ,  C07D333/46 ,  C08K 5/42 ,  C08L 33/06 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (24)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB10 ,  2H025CB43 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4H006TN40 ,  4J002BG031 ,  4J002BH021 ,  4J002EU047 ,  4J002EV236 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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