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J-GLOBAL ID：200903059644071758

感放射線性組成物

Inventor： 鈴木 正睦 ,  桜井 明彦 ,  田辺 隆喜 ,  勇元 喜次
Applicant, Patent owner： 日本合成ゴム株式会社
Agent (1)： 大島 正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995314061
Publication number (International publication number)：1997160244
Application date： Dec. 01, 1995
Publication date： Jun. 20, 1997
Summary：

【要約】【課題】 紫外線、遠紫外線、X線あるいは荷電子線の如き各種放射線に有効に感応し且つ解像度、パターン形状、PED安定性等の良好な化学増幅型ポジ型レジストとして有用な、感放射線性組成物を提供すること。【解決手段】 (A)酸により開裂し得るt-ブチル基を持つ置換基を有する化合物、(B)酸により分解し得るアセタール基またはケタール基を持つ置換基を有する化合物 および(C)感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性組成物。

Claim (excerpt)：

(A)酸により分解し得るt-ブチル基を持つ置換基を有する重合体、(B)酸により分解し得るアセタール基またはケタール基を有する重合体 および(C)感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

• 感光性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-354206   Applicant：株式会社東芝
• スルホニウム塩及びレジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-019844   Applicant：信越化学工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-270332   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 特開平4-195138
  
• 特開平4-350657
  
• 特開平4-350658
  
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-286168   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-094443   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト膜形成用塗布液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-149285   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト膜形成用塗布液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-172899   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-305113   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-175638   Applicant：東京応化工業株式会社