感放射線性樹脂組成物、それから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズ

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000052650
Publication number (International publication number)：2001240757
Application date： Feb. 29, 2000
Publication date： Sep. 04, 2001
Summary：

【要約】【課題】層間絶縁膜マイクロレンズパターンの形成後、高温処理を施しても、十分な透明性、耐溶剤性、密着性を維持し、かつ必要な解像度、保存安定性を具備した感放射線性樹脂組成物、およびそれから得られる層間絶縁膜、マイクロレンズを提供する。【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、[A]フェノール性水酸基および/またはカルボキシル基を含有する重合体と、[B]1,2-キノンジアジド-6-スルホン酸エステル化合物、1,2-キノンジアジド-7-スルホン酸エステル化合物、および1,2-キノンジアジド-8-スルホン酸エステル化合物からなる群から選ばれる少なくとも一つの化合物を含有する。層間絶縁膜、マイクロレンズは上記から得られる。

Claim (excerpt)：

[A]フェノール性水酸基および/またはカルボキシル基を含有する重合体と、[B]1,2-キノンジアジド-6-スルホン酸エステル化合物、1,2-キノンジアジド-7-スルホン酸エステル化合物、および1,2-キノンジアジド-8-スルホン酸エステル化合物からなる群から選ばれる少なくとも一つの化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (8)：

C08L101/06 , C08K 5/42 , C08L101/08 , G02B 1/04 , G02B 3/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/022 601 , G03F 7/033

FI (8)：

C08L101/06 , C08K 5/42 , C08L101/08 , G02B 1/04 , G02B 3/00 A , G03F 7/004 501 , G03F 7/022 601 , G03F 7/033

F-Term (47)：

2H025AA00 , 2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA06 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AB20 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE01 , 2H025CB13 , 2H025CB14 , 2H025CB17 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 2H025FA29 , 2H025FA30 , 4J002AC021 , 4J002BC041 , 4J002BD051 , 4J002BD101 , 4J002BE001 , 4J002BF021 , 4J002BG001 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG101 , 4J002BG131 , 4J002BH001 , 4J002BL011 , 4J002CC162 , 4J002CC182 , 4J002CD012 , 4J002CD022 , 4J002CD052 , 4J002CD062 , 4J002CD191 , 4J002CH032 , 4J002EV246 , 4J002FD206 , 4J002FD310 , 4J002GP01 , 4J002GP03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-260869 Applicant：三菱化成株式会社, コニカ株式会社
ポジ型フオトレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-229236 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-327631 Applicant：日本ゼオン株式会社

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