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J-GLOBAL ID：200903067619762153

感放射線性樹脂組成物、それから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズ

Inventor：
西村 功

About 西村 功

, 
遠藤 昌之

About 遠藤 昌之

, 
丹羽 一明

About 丹羽 一明


Applicant, Patent owner：
ジェイエスアール株式会社

About ジェイエスアール株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000052650
Publication number (International publication number)：2001240757
Application date： Feb. 29, 2000
Publication date： Sep. 04, 2001
Summary：
【要約】【課題】 層間絶縁膜マイクロレンズパターンの形成後、高温処理を施しても、十分な透明性、耐溶剤性、密着性を維持し、かつ必要な解像度、保存安定性を具備した感放射線性樹脂組成物、およびそれから得られる層間絶縁膜、マイクロレンズを提供する。【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、[A]フェノール性水酸基および/またはカルボキシル基を含有する重合体と、[B]1,2-キノンジアジド-6-スルホン酸エステル化合物、1,2-キノンジアジド-7-スルホン酸エステル化合物、および1,2-キノンジアジド-8-スルホン酸エステル化合物からなる群から選ばれる少なくとも一つの化合物を含有する。層間絶縁膜、マイクロレンズは上記から得られる。
Claim (excerpt)：
[A]フェノール性水酸基および/またはカルボキシル基を含有する重合体と、[B]1,2-キノンジアジド-6-スルホン酸エステル化合物、1,2-キノンジアジド-7-スルホン酸エステル化合物、および1,2-キノンジアジド-8-スルホン酸エステル化合物からなる群から選ばれる少なくとも一つの化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (8)：
C08L101/06 ,  C08K 5/42 ,  C08L101/08 ,  G02B 1/04 ,  G02B 3/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 601 ,  G03F 7/033
FI (8)：
C08L101/06 ,  C08K 5/42 ,  C08L101/08 ,  G02B 1/04 ,  G02B 3/00 A ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 601 ,  G03F 7/033
F-Term (47)：
2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA06 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H025FA30 ,  4J002AC021 ,  4J002BC041 ,  4J002BD051 ,  4J002BD101 ,  4J002BE001 ,  4J002BF021 ,  4J002BG001 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG101 ,  4J002BG131 ,  4J002BH001 ,  4J002BL011 ,  4J002CC162 ,  4J002CC182 ,  4J002CD012 ,  4J002CD022 ,  4J002CD052 ,  4J002CD062 ,  4J002CD191 ,  4J002CH032 ,  4J002EV246 ,  4J002FD206 ,  4J002FD310 ,  4J002GP01 ,  4J002GP03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (5)
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