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J-GLOBAL ID:200903067988965939

感光性樹脂組成物の露光方法およびそれを用いたパターン形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 青山 葆 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997227937
Publication number (International publication number):1999065124
Application date: Aug. 25, 1997
Publication date: Mar. 05, 1999
Summary:
【要約】【課題】 感光性樹脂組成物の露光方法およびそれを用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】 (i)a)感光性樹脂としての鎖状ポリシランまたはネットワーク状ポリシラン、b)光ラジカル発生剤および酸化剤、および場合によりc)シリコーン化合物を含んで成る感光性樹脂組成物を、基材に塗布および乾燥し、感光層を形成する工程、(ii)上記感光層の上にパターニング用マスクを配置する工程であって、前記感光層とマスクとの間のギャップが1〜1000μmであること、および(iii)前記ギャップに酸素濃度1〜100%の気体を流入させながら、前記マスクを介して前記感光層を選択的に露光して潜像を形成する工程を含む感光性樹脂組成物の露光方法。
Claim (excerpt):
(i)a)感光性樹脂としての式:【化1】(式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ独立して、水素、置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、置換もしくは無置換の脂環式炭化水素基およびアルコキシ基から成る群より選ばれる基であり、mおよびnは0以上の整数を表し、m+nは1以上である。)で表される鎖状ポリシラン、または隣接するSi原子との結合数が3または4であるSi原子が、全体のSi原子数の5〜50%である、平均分子量10000以上のネットワーク状ポリシランを含んで成る感光性樹脂組成物を、基材に塗布および乾燥し、感光層を形成する工程、(ii)上記感光層の上にパターニング用マスクを配置する工程であって、前記感光層とマスクとの間のギャップが1〜1000μmであること、および(iii)前記ギャップに酸素濃度1〜100%の気体を流入させながら、前記マスクを介して前記感光層を選択的に露光して潜像を形成する工程を含む感光性樹脂組成物の露光方法。
IPC (6):
G03F 7/075 511 ,  G03F 7/075 501 ,  C08G 77/60 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/40 521
FI (6):
G03F 7/075 511 ,  G03F 7/075 501 ,  C08G 77/60 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 503 Z ,  G03F 7/40 521
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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