欠陥検査装置および欠陥検査方法

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：小川勝男 , 田中恭助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002344327
Publication number (International publication number)：2004177284
Application date： Nov. 27, 2002
Publication date： Jun. 24, 2004
Summary：

【課題】表面に透明薄膜が形成されたウェハ等の被検査対象基板はもとより、回路パターンを有するウェハ等の被検査対象基板に対して、0.1μmレベルの微小な異物やキズ等の欠陥を、高感度で、しかも高速に検査できるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。【解決手段】照明光束を被検査対象基板1の表面に対して所定の傾斜角度で照射する照明光学系10と、前記被検査対象基板1から上方へ出射する上方反射散乱光を検出する上方検出光学系20及び前記被検査対象基板1から前記照明光束に対して平面的に交差する方向で傾斜した方向に出射する側方反射散乱光を検出する側方検出光学系600を備えた検出光学系200とを備えた欠陥検査装置である。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被検査対象基板を載置して所定方向に走行する走査ステージと、照明光束を被検査対象基板の表面に対して所定の傾斜角度で照射する照明光学系と、前記被検査対象基板から上方へ出射する上方反射散乱光を集光する対物レンズと該対物レンズで集光された上方反射散乱光を結像させる上方用結像光学系と該上方用結像光学系で結像された上方反射散乱光像を受光して上方用画像信号に変換する上方用光検出器とを有する上方検出光学系及び前記被検査対象基板から前記照明光束に対して平面的に交差する方向で傾斜した方向に出射する側方反射散乱光を集光して結像させる側方用結像光学系と該側方用結像光学系で結像した側方反射散乱光像を受光して側方用画像信号に変換する側方用光検出器とを有する側方検出光学系を備えた検出光学系と、該検出光学系の上方用光検出器から得られる上方用画像信号を上方用デジタル画像信号に変換し、前記側方用光検出器から得られる側方用画像信号を側方用デジタル画像信号に変換するA/D変換器と、該A/D変換器で変換された各デジタル画像信号に基づいて欠陥を検出する信号処理系とを備えたことを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (1)：

G01N21/956

FI (1)：

G01N21/956 A

F-Term (17)：

2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AB02 , 2G051BB01 , 2G051CA02 , 2G051CA03 , 2G051CA07 , 2G051CB05 , 2G051CC07 , 2G051CC17 , 2G051EA11 , 2G051EA12 , 2G051EA16 , 2G051EA25 , 2G051EB01 , 2G051EC02 , 2G051ED21

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

異物検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-026359 Applicant：株式会社東芝
欠陥検査装置およびその方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-206078 Applicant：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
欠陥検査方法およびその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-037128 Applicant：株式会社日立製作所

Show all

Return to Previous Page