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J-GLOBAL ID:200903068708130574
半導体レーザ素子
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
梅田 勝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997204076
Publication number (International publication number):1999054828
Application date: Jul. 30, 1997
Publication date: Feb. 26, 1999
Summary:
【要約】【課題】 発振閾値電流を低減し、低消費電力で且つ高い信頼性を有する半導体レーザ素子を提供する。【解決手段】 pn界面に隣接した厚さ10nmから300nmの範囲の薄膜層を低キャリア濃度とする。具体的には、活性層の上下に配置され、導電性のそれぞれ異なるクラッド層を1E16cm-3から1E17cm-3の低いキャリア濃度で且つ10nmから300nmの層厚をもつ第1の上下クラッド層と5E17cm-3から1E18cm-3の高いキャリア濃度を有する第2の上下クラッド層の少なくとも上下の両クラッド層を2層以上の構成にする。
Claim (excerpt):
n型GaAs基板上に、MOCVD法によって、順に、少なくとも、高濃度のSiドープn型AlGaAs第1クラッド層と、低濃度のSiドープn型AlGaAs第2クラッド層と、GaAsまたはAlGaAs活性層と、低濃度のZnドープp型AlGaAs第1クラッド層と、高濃度のZnドープp型AlGaAs第2クラッド層と、低濃度のZnドープp型AlGaAs第3クラッド層と、低濃度のSiドープn型AlGaAsまたはGaAs第1ブロック層と高濃度のSiドープn型AlGaAsまたはGaAs第2ブロック層を形成した半導体レーザ素子。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-232938
Applicant:株式会社日立製作所
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半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-101787
Applicant:サンケン電気株式会社
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半導体レーザ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-166621
Applicant:三菱電機株式会社
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半導体レーザ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-018476
Applicant:シャープ株式会社
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半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-338193
Applicant:シャープ株式会社
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半導体装置および半導体レーザー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-347987
Applicant:ソニー株式会社
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