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J-GLOBAL ID：200903068803535026

マスクブランクスとその製造方法及び使用方法、並びにマスクとその製造方法及び使用方法

Inventor：
三井 壮一郎

About 三井 壮一郎


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (1)： 堀口 浩
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005085976
Publication number (International publication number)：2006267595
Application date： Mar. 24, 2005
Publication date： Oct. 05, 2006
Summary：
【課題】 絶縁体であるガラスマスクブランクス及びマスクにおいて、静電チャックの適用を可能とし、発塵がなく、帯電防止とパーティクル付着防止を可能とする。【解決手段】 マスクブランクスに透明性導電膜の付与、若しくは金属イオンのドーピングにより導電層を形成することにより、十分な保持力を有する静電チャックの適用が可能であり、究極的な計測精度でマスクブランクスの表裏面形状の同時検査を可能とし、発塵が極めて少なく、帯電防止とパーティクル付着防止が可能なマスクブランクスとその製造方法及び使用方法、並びにこれを用いたマスクとその製造方法と使用方法を提供することができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
非晶質若しくは結晶性材料を母材とするマスクブランクスにおいて、前記母材が透明且つ導電性を有していることを特徴とするマスクブランクス。
IPC (2)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G03F1/08 A ,  H01L21/30 502P
F-Term (1)：
2H095BB01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (12)
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